掩模對準系統:EVG的發明,例如1985年世界上較早的擁有底面對準功能的系統,開創了頂面和雙面光刻,對準晶圓鍵合和納米壓印光刻的先例,并設定了行業標準。EVG通過不斷開發掩模對準器產品來增強這些核欣光刻技術,從而在這些領域做出了貢獻。EVG的掩模對準系統可容納尺寸蕞大,尺寸和形狀以及厚度蕞大為300mm的晶片和基板,旨在為高級應用提供先進的自動化程度和研發靈活性的復雜解決方案。EVG的掩模對準器和工藝能力已經過現場驗證,并已安裝在全球的生產設施中,以支持眾多應用,包括高級封裝,化合物半導體,功率器件,LED,傳感器和MEMS制造。岱美是EVG光刻機在中國的代理商,提供本地化的貼心服務。半導體光刻機報價
我們可以根據您的需求提供進行優化的多用途系統。我們的掩模對準系統設計用于從掩模對準到鍵合對準的快速簡便轉換。此外,可以使用用于壓印光刻的可選工具集,例如UV-納米壓印光刻,熱壓印或微接觸印刷。所有系統均支持原位對準驗證軟件,以提高手動操作系統的對準精度和可重復性。EVG620NT/EVG6200NT可從手動到自動基片處理,實現現場升級。此外,所有掩模對準器都支持EVG專有的NIL技術。如果您需要納米壓印設備,請訪問我們的官網,或者直接聯系我們。聯電光刻機推薦型號EVG光刻機蕞新的曝光光學增強功能是對LED燈的設置。
IQAligner®NT曝光設定:硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式楔形補償:全自動軟件控制;非接觸式IQAligner®NT曝光選項:間隔曝光/洪水曝光先進的對準功能:自動對準暗場對準功能/完整的明場掩模移動(FCMM)大間隙對準跳動控制對準IQAligner®NT系統控制:操作系統:Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數多語言用戶GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR實時遠程訪問,診斷和故障排除如果您需要確認準確的產品的信息,請聯系我們。如果需要鍵合機,請看官網信息。
我們的研發實力:EVG已經與研究機構合作超過35年,讓我們深入了解他們的獨特需求。我們專業的研發工具提供zhuo越的技術和*大的靈活性,使大學、研究機構和技術開發合作伙伴能夠參與多個研究項目和應用項目。此外,研發設備與EVG的合心技術平臺無縫集成,這些平臺涵蓋從研發到小規模和大批量生產的整個制造鏈。研發和權面生產系統之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠將其流程遷移到批量生產環境。以客戶的需求為導向,研發才具有價值,也是我們不斷前進的動力。EVG同樣為客戶提供量產型掩模對準系統。
EVG101光刻膠處理系統的技術數據:可用模塊:旋涂/OmniSpray®/開發分配選項:各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達52000cP的粘度;液體底漆/預濕/洗盤;去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR);恒壓分配系統/注射器分配系統。智能過程控制和數據分析功能(框架軟件平臺)用于過程和機器控制的集成分析功能并行任務/排隊任務處理功能,提高效率設備和過程性能跟宗功能:智能處理功能;事/故和警報分析/智能維護管理和跟宗晶圓直徑(基板尺寸):高達300毫米了解客戶需求和有效的全球支持,這是我們提供優先解決方案的重要基礎。高精密儀器光刻機美元價
EVG100光刻膠處理系統可以處理多種尺寸的基板,直徑從2寸到300 mm。半導體光刻機報價
半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀產業是國民經濟的基礎性、戰略性產業,是信息化和工業化深度融合的源頭,對促進工業轉型升級、發展戰略性新興產業、推動現代**建設、保證和提高大家生活水平具有重要作用。隨著儀器儀表和計算機的完美結合,為了更好地滿足人們對精神世界的需求,體驗多維世界給人們帶來的快樂,儀器儀表的虛擬化開始發展。身臨其境接受客觀實物,給美又增添了一絲創意。儀器儀表行業已經連續多年保持了經濟高位運行的態勢。即使當全球受金融風暴的影響,各個行業經濟東圃有所放緩,但從全景發展情況看來,儀表行業的增長速度并沒有放緩。儀器儀表行業飛速發展一是因為我國的經濟高速穩定發展的運行;按照過去的經驗,如果GDP的增長在10%以上時,儀表行業的增長率則在26%~30%之間。二是因為我國宏觀調控對儀表行業的影響有一個滯后期,儀表往往在工程的后期才交付使用,因此,因宏觀調控政策而減少的收入對儀表行業的影響不會太大。半導體光刻機報價
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