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甘肅**光刻機

來源: 發布時間:2021-01-16

EVG ® 620 NT 掩模對準系統(半自動/自動)

特色:EVG ® 620 NT提供國家的本領域掩模對準技術在**小化的占位面積,支持高達150毫米晶圓尺寸。

技術數據:EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱,在**小的占位面積上結合了先進的對準功能和**/優化的總體擁有成本,提供了**/先進的掩模對準技術。它是光學雙面光刻的理想工具,可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,以滿足大批量生產要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件,**短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務和支持,使它成為任何制造環境的理想解決方案。 可在眾多應用場景中找到EVG的設備應用,包括高級封裝,化合物半導體,功率器件,LED,傳感器和MEMS。甘肅**光刻機

EVG6200 NT特征:

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''

系統設計支持光刻工藝的多功能性

在第/一次光刻模式下的吞吐量高達180 WPH,在自動對準模式下的吞吐量高達140 WPH

易碎,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,更換時間短

帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列

自動原點功能,用于對準鍵的精確居中

具有實時偏移校正功能的動態對準功能

支持**/新的UV-LED技術

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統

自動化系統上的手動基板裝載功能

可以從半自動版本升級到全自動版本

**小化系統占地面積和設施要求

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

先進的軟件功能以及研發與全/面生產之間的兼容性

便捷處理和轉換重組

遠程技術支持和SECS / GEM兼容性

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 HVM光刻機代理價格EVG?620 NT / EVG?6200 NT 掩模對準系統(自動化和半自動化)支持的晶圓尺寸 :150 mm / 200 mm。

EVG120特征:

晶圓尺寸可達200毫米

超緊湊設計,占用空間**小

**多2個涂布/顯影室和10個加熱/冷卻板

用于旋涂和噴涂,顯影,烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應用領域提供了巨大的機會

化學柜,用于化學品的外部存儲

EV集團專有的OmniSpray ®超聲波霧化技術提供了****的處理結果,當涉及到極端地形的保形涂層

CoverSpin TM旋轉蓋可降低光刻膠消耗并優化光刻膠涂層的均勻性

Megasonic技術用于清潔,聲波化學處理和顯影,可提高處理效率并將處理時間從數小時縮短至數分鐘


IQ Aligner®NT曝光設定:硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式

楔形補償:全自動軟件控制;非接觸式


IQ Aligner®NT曝光選項:間隔曝光/洪水曝光

先進的對準功能:自動對準

暗場對準功能/完整的明場掩模移動(FCMM)

大間隙對準

跳動控制對準


IQ Aligner®NT系統控制:

操作系統:Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數

多語言用戶GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR

實時遠程訪問,診斷和故障排除


如果您需要確認準確的產品的信息,請聯系我們。如果需要鍵合機,請看官網信息。 岱美是EVG光刻機在中國的代理商,提供本地化的質量服務。

集成化光刻系統


HERCULES光刻量產軌道系統通過完全集成的生產系統和結合了掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理功能的高度自動化,完善了EVG光刻產品系列。HERCULES光刻軌道系統基于模塊化平臺,將EVG已建立的光學掩模對準技術與集成的清潔,光刻膠涂層,烘烤和光刻膠顯影模塊相結合。這使HERCULES平臺變成了“一站式服務”,在這里將經過預處理的晶圓裝載到工具中,然后返回完全結構化的經過處理的晶圓。目前可以預定的型號為:HERCULES。請訪問官網獲取更多的信息。


EVG已經與研究機構合作超過35年,能夠深入了解他們的獨特需求。青海HVM光刻機

可以在EVG105烘烤模塊上執行軟烘烤、曝光后烘烤和硬烘烤操作。甘肅**光刻機

EVG101光刻膠處理系統的旋轉涂層模塊-旋轉器參數

轉速:**/高10 k rpm

加速速度:**/高10 k rpm

噴涂模塊-噴涂產生

超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴

開發模塊-分配選項

水坑顯影/噴霧顯影


EVG101光刻膠處理系統附加模塊選項:

預對準:機械


系統控制參數:

操作系統:Windows

文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業/實時遠程訪問,診斷和故障排除


多語言用戶GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR


甘肅**光刻機

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