EVG ® 7200 LA特征：

專有SmartNIL ®技術，提供了****的印跡形大面積

經過驗證的技術，具有出色的復制保真度和均勻性

多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節省大量成本

強大且精確可控的處理

與所有市售的壓印材料兼容

EVG ® 7200 LA技術數據：

晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米）

解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2）

對準：可選的光學對準：≤±15 μm

自動分離：支持的

迷你環境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

SmartNIL技術可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。青海納米壓印推薦產品

EVG ® 720特征：

體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度

專有SmartNIL ®技術，多使用聚合物印模技術

集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發模式

可選的頂部對準

可選的迷你環境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺

從研發到生產的可擴展性

系統外殼，可實現比較好過程穩定性和可靠性技術數據

晶圓直徑（基板尺寸）

75至150毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準：可選的頂部對準

自動分離：支持的

迷你環境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

EVG6200NT納米壓印推薦型號EVG的熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術，具有非常高的復制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。

    面板廠為補償較低的開口率，多運用在背光模塊搭載較多LED的技術，但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程，可確保適當的開口率，降低用電量。利用一般曝光設備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經過數十次的曝光制程。不僅制程時間長，經過多次曝光后，在圖樣間會形成細微的縫隙，無法完整顯示影像。若將NIL技術應用在5代設備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質量的生產制程，是LCD領域中***一個創新任務。若加速NIL制程導入LCD生產的時程，偏光膜企業的營收可能減少。（來自網絡。

EVG ® 770分步重復納米壓印光刻系統

分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作

EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從**

大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

EVG770的主要功能包括精確的對準功能，完整的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。 EVG開拓了這種非常規光刻技術，擁有多年技術，掌握了NIL，并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。

    據外媒報道，美國威斯康星大學麥迪遜分校（UWMadison）的研究人員們，已經同合作伙伴聯手實現了一種突破性的方法。不僅**簡化了低成本高性能、無線靈活的金屬氧化物半導體場效應晶體管（MOSFET）的制造工藝，還克服了許多使用標準技術制造設備時所遇到的操作上的問題。該技術可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板，并在可穿戴電子設備和彎曲傳感器等領域派上大用場。研究人員稱，這項突破性的納米壓印平板印刷制造工藝，可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能，MOSFET已經迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管。為了滿足不斷縮小的集成電路需求，MOSFET尺寸也在不斷變小，然而這也引發了一些問題。EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統。微接觸納米壓印技術服務

岱美儀器代理的SmartNIL是一項關鍵的啟用技術，可用于顯示器，生物技術和光子應用中的許多新創新。青海納米壓印推薦產品

EVG ® 770特征：

微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結構為SmartNIL ®

簡單實施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配，壓印和脫模過程中的實時圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學楔形誤差補償

可選的自動盒帶間處理

EVG ® 770技術數據：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2

對準：頂側顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm

較早印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

有效印記區域：長達50 x 50毫米

自動分離：支持的

前處理：涂層：液滴分配（可選）

青海納米壓印推薦產品

岱美儀器技術服務（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型的公司。公司自成立以來，以質量為發展，讓匠心彌散在每個細節，公司旗下磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發深受客戶的喜愛。公司從事儀器儀表多年，有著創新的設計、強大的技術，還有一批**的專業化的隊伍，確保為客戶提供良好的產品及服務。岱美儀器技術服務憑借創新的產品、專業的服務、眾多的成功案例積累起來的聲譽和口碑，讓企業發展再上新高。