NanoX-2000/3000

系列 3D 光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測量（PSI）、白光垂直掃描干涉測量（VSI）和單色光

垂直掃描干涉測量（CSI）等技術(shù)的基礎(chǔ)上，以其納米級測量準(zhǔn)確度和重復(fù)性（穩(wěn)定性）定量地反映出被測件的表面粗

糙度、表面輪廓、臺階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加

工、表面工程技術(shù)、材料、太陽能電池技術(shù)等領(lǐng)域。

使用范圍廣: 兼容多種測量和觀察需求  

保護(hù)性: 非接觸式光學(xué)輪廓儀

耐用性更強(qiáng)， 使用無損 

可操作性:一鍵式操作，操作更簡單，更方便  

關(guān)于三坐標(biāo)測量輪廓度及粗糙度

  三坐標(biāo)測量機(jī)是不能測量粗糙度的，至于測量零件的表面輪廓 ，要視三坐標(biāo)的測量精度及零件表面輪廓度的要求了，如果你的三坐標(biāo)測量機(jī)精度比較高，但零件輪廓度要求不可，是可以用三坐標(biāo)來代替的。一般三坐標(biāo)精度都在2-3um左右，而輪廓儀都在2um以內(nèi)，還有就是三坐標(biāo)可以測量大尺寸零件的輪廓，因?yàn)樗旋堥T式三坐標(biāo)和關(guān)節(jié)臂三坐標(biāo)，而輪廓儀主要是用來測量一些小的精密零件輪廓尺寸的，加上粗糙度模塊也可以測量粗糙度。 PSI輪廓儀摩擦學(xué)應(yīng)用由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小，任何微小的黏附異物和下次均會(huì)導(dǎo)致制造的晶圓IC表面存在缺 陷。

如何正確使用輪廓儀

準(zhǔn)備工作

1.測量前準(zhǔn)備。

2.開啟電腦、打開機(jī)器電源開關(guān)、檢查機(jī)器啟動(dòng)是否正常。

3.擦凈工件被測表面。

測量

1.將測針正確、平穩(wěn)、可靠地移動(dòng)在工件被測表面上。

2.工件固定確認(rèn)工件不會(huì)出現(xiàn)松動(dòng)或者其它因素導(dǎo)致測針與工件相撞的情況出現(xiàn)

3.在儀器上設(shè)置所需的測量條件。

4.開始測量。測量過程中不可觸摸工件更不可人為震動(dòng)桌子的情況產(chǎn)生。

5.測量完畢，根據(jù)圖紙對結(jié)果進(jìn)行分析，標(biāo)出結(jié)果，并保存、打印。

輪廓的角度處理:  

角度處理：兩直線夾角、直線與Y軸夾角、直線與X軸夾角點(diǎn)線處理：兩直線交點(diǎn)、交點(diǎn)到直線距離、交點(diǎn)到交點(diǎn)距離、交點(diǎn)到圓心距離、交點(diǎn)到點(diǎn)距離圓處理：圓心距離、圓心到直線的距離、交點(diǎn)到圓心的距離、直線到切點(diǎn)的距離線處理：直線度、凸度、LG凸度、對數(shù)曲線

輪廓儀對所測樣品的尺寸有何要求？

答：輪廓儀對載物臺xy行程為140*110mm（可擴(kuò)展），Z向測量范圍比較大可達(dá)10mm，但由于白光干涉儀單次測量區(qū)域比較小（以10X鏡頭為例，在1mm左右），因而在測量大尺寸的樣品時(shí)，全檢的方式需要進(jìn)行拼接測量，檢測效率會(huì)比較低，建議尋找樣品表 面的特征位置或抽取若干區(qū)域進(jìn)行抽點(diǎn)檢測，以單點(diǎn)或多點(diǎn)反映整個(gè)面的粗糙度參數(shù)；

4.測量的**小尺寸是否可以達(dá)到12mm，或者能夠測到更小的尺寸？

如果需要了解更多，請?jiān)L問官網(wǎng)。 三維表面輪廓儀是精密加工領(lǐng)域必不可少的檢測設(shè)備，它既保障了生產(chǎn)加工的準(zhǔn)確性，又提高了成品的出產(chǎn)效率。

    比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導(dǎo)體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本，復(fù)雜度，和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個(gè)角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和強(qiáng)度，使得橢偏儀對超薄和復(fù)雜的薄膜堆有較強(qiáng)的測量能力。然而，偏振分析意味著需要昂貴的精密移動(dòng)光學(xué)儀器。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應(yīng)（絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對稱）。因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的優(yōu)先，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術(shù)都可用。而且具有快速，簡便，成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。輪廓儀可用于Oled 特征結(jié)構(gòu)測量，表面粗糙度，外延片表面缺 陷檢測，硅片外延表面缺 陷檢測。中科院輪廓儀國內(nèi)代理

晶圓的IC制造過程可簡單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程。晶片輪廓儀一級代理

NanoX-8000 系統(tǒng)主要性能

? 菜單式系統(tǒng)設(shè)置，一鍵式操作，自動(dòng)數(shù)據(jù)存儲

? 一鍵式系統(tǒng)校準(zhǔn)

? 支持連接MES系統(tǒng)，數(shù)據(jù)可導(dǎo)入SPC

? 具備異常報(bào)警，急停等功能，報(bào)警信息可儲存

? MTBF ≥ 1500 hrs

? 產(chǎn)能 : 45s/點(diǎn) （移動(dòng) + 聚焦 + 測量）（掃描范圍 50um）

? 具備 Global alignment & Unit alignment

? 自動(dòng)聚焦范圍 ： ± 0.3mm

? XY運(yùn)動(dòng)速度

**快

如果需要了解更多詳細(xì)參數(shù)，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。

我們主要經(jīng)營鍵合機(jī)、光刻機(jī)、輪廓儀，隔振臺等設(shè)備。 晶片輪廓儀一級代理

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司主要經(jīng)營范圍是儀器儀表，擁有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)和良好的市場口碑。公司自成立以來，以質(zhì)量為發(fā)展，讓匠心彌散在每個(gè)細(xì)節(jié)，公司旗下磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念，在儀器儀表深耕多年，以技術(shù)為先導(dǎo)，以自主產(chǎn)品為重點(diǎn)，發(fā)揮人才優(yōu)勢，打造儀器儀表良好品牌。岱美儀器技術(shù)服務(wù)立足于全國市場，依托強(qiáng)大的研發(fā)實(shí)力，融合前沿的技術(shù)理念，飛快響應(yīng)客戶的變化需求。