EVG ® 610 紫外線納米壓印光刻系統
具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統,從碎片到比較大150毫米。
該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉換時間*為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求,因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。
EVG開拓了這種非常規光刻技術,擁有多年技術,掌握了NIL,并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。高校納米壓印報價
HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**的納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統支持各種設備和應用程序的生產,包括用于增強/虛擬現實(AR / VR)頭戴式耳機的光學設備,3D傳感器,生物醫學設備,納米光子學和等離激元學。
HERCULES ® NIL特征:
全自動UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺,具有多達八個可交換過程模塊(壓印和預處理)
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區域烙印覆蓋
批量生產**小40 nm或更小的結構
支持各種結構尺寸和形狀,包括3D
適用于高地形(粗糙)表面
*分辨率取決于過程和模板
安徽氮化鎵納米壓印EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統。
**的衍射波導設計商和制造商WaveOptics***宣布與EV Group(EVG)進行合作,EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的**供應商,以帶來高性能增強現實( AR)波導以當今業界*低的成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關鍵光學組件。
WaveOptics首席執行官David Hayes評論:“這一合作伙伴關系標志著增強現實行業的轉折點,是大規模生產高質量增強現實解決方案的關鍵步驟,這是迄今為止尚無法實現的能力。” EVG的專業知識與我們可擴展的通用技術的結合將使到明年年底,AR終端用戶產品的市場價格將低于600美元。“這項合作是釋放AR可穿戴設備發展的關鍵;我們共同處于有利位置,可以在AR中引入大眾市場創新,以比以往更低的成本開辟了可擴展性的新途徑。”
HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統達300毫米
結合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺®技術支持AR / VR,3D傳感器,光子和生物技術生產應用
EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統,將清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻(NIL)工藝結合在一個平臺上,用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個基于EVG的全模塊化設備平臺和可交換模塊的NIL系統,可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統,以比較好地滿足其生產需求,包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。
納米壓印設備可用來進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。
納米壓印應用一:鏡片成型
晶圓級光學(WLO)的制造得到EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備的支持。使用從晶片尺寸的主印模復制來的工作印模,通過軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉移到光學聚合物材料中。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,可以輕松地適應各種材料組合,以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制的優先。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
EVG ? 720是自動SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統。3D IC納米壓印價格怎么樣
EVG的熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術,具有非常高的復制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。高校納米壓印報價
EVG ® 770特征:
微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結構為SmartNIL ®
簡單實施不同種類的大師
可變抗蝕劑分配模式
分配,壓印和脫模過程中的實時圖像
用于壓印和脫模的原位力控制
可選的光學楔形誤差補償
可選的自動盒帶間處理
EVG ® 770技術數據:
晶圓直徑(基板尺寸):100至300毫米
解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:柔軟的UV-NIL
曝光源:大功率LED(i線)> 100 mW /cm2
對準:頂側顯微鏡,用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm
較早印刷模具到模具的放置精度:≤1微米
有效印記區域:長達50 x 50毫米
自動分離:支持的
前處理:涂層:液滴分配(可選)
高校納米壓印報價
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