FSM 413MOT 紅外干涉測量設(shè)備:
適用于所有可讓紅外線通過的材料:硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石 英、聚合物…………
應(yīng)用:
襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)
平整度
厚度變化 (TTV)
溝槽深度
過孔尺寸、深度、側(cè)壁角度
粗糙度
薄膜厚度
不同半導(dǎo)體材料的厚度
環(huán)氧樹脂厚度
襯底翹曲度
晶圓凸點高度(bump height)
MEMS 薄膜測量
TSV 深度、側(cè)壁角度...
如果您想了解更多關(guān)于FSM膜厚儀的技術(shù)問題,請聯(lián)系我們岱美儀器。 F3-sX系列使用近紅外光來測量薄膜厚度,即使有許多肉眼看來不透光(例如半導(dǎo)體)。Filmetrics F-HC膜厚儀合理價格
F30包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置光斑尺寸10微米的單點測量平臺FILMeasure 8反射率測量軟件Si 參考材料FILMeasure **軟件 (用于遠程數(shù)據(jù)分析)
額外的好處:每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫, 隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃
型號厚度范圍*波長范圍
F3-s 980:10μm - 1mm 960-1000nm
F3-s1310:15μm - 2mm 1280-1340nm
F3-s1550:25μm - 3mm 1520-1580nm
*取決于薄膜種類 工藝薄膜膜厚儀當(dāng)?shù)貎r格測量厚度: 15 — 780 μm (單探頭) ; 3 mm (雙探頭總厚度測量)。
電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué),半導(dǎo)體,以及其它數(shù)十個行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。常見的電介質(zhì)有:二氧化硅 – **簡單的材料之一, 主要是因為它在大部分光譜上的無吸收性 (k=0), 而且非常接近化學(xué)計量 (就是說,硅:氧非常接近 1:2)。 受熱生長的二氧化硅對光譜反應(yīng)規(guī)范,通常被用來做厚度和折射率標(biāo)準(zhǔn)。 Filmetrics能測量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 – 對此薄膜的測量比很多電介質(zhì)困難,因為硅:氮比率通常不是3:4, 而且折射率一般要與薄膜厚度同時測量。 更麻煩的是,氧常常滲入薄膜,生成一定程度的氮氧化硅,增大測量難度。 但是幸運的是,我們的系統(tǒng)能在幾秒鐘內(nèi) “一鍵” 測量氮化硅薄膜完整特征!
非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在, 在兩級之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。
非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對不同沉積條件是獨特的,必須有精確的厚度測量。 測量厚度時還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風(fēng)化。
Filmetrics 設(shè)備提供的復(fù)雜的測量程序同時測量和輸出每個要求的硅薄膜參數(shù), 并且“一鍵”出結(jié)果。
測量范例多晶硅被***用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學(xué)和結(jié)構(gòu)特性。隨著沉積和退火條件的改變,這些特性隨之改變,所以準(zhǔn)確地測量這些參數(shù)非常重要。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間,加入二氧化硅層,以增加光學(xué)對比,其薄膜厚度和光學(xué)特性均可測得。F20可以很容易地測量多晶硅薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù),以及二氧化硅夾層厚度。Bruggeman光學(xué)模型被用來測量多晶硅薄膜光學(xué)特性。
測量方式: 紅外干涉(非接觸式)。
F10-ARc:
走在前端 以較低的價格現(xiàn)在可以很容易地測量曲面樣品,包括眼鏡和其他光學(xué)鏡片的防反射涂層, *需其他設(shè)備一小部分的的價格就能在幾秒內(nèi)得到精確的色彩讀值和反射率測量. 您也可選擇升級薄膜厚度測量軟件, 操作上并不需要嚴(yán)格的訓(xùn)練, 您甚至可以直覺的藉由設(shè)定任何波長范圍之比較大, **小和平均值.去定義顏色和反射率的合格標(biāo)準(zhǔn).
容易設(shè)定. 易於維護.只需將F10-ARc插上到您計算機的USB端口, 感謝Filmetrics的創(chuàng)新, F10-ARc 幾乎不存在停機時間, 加上40,000小時壽命的光源和自動板上波長校準(zhǔn),你不需擔(dān)心維護問題。 F10-AR在用戶定義的任何波長范圍內(nèi)都能進行比較低、比較高和平均反射測試。光刻膠膜厚儀要多少錢
F20-UV測厚范圍:1nm - 40μm;波長:190-1100nm。Filmetrics F-HC膜厚儀合理價格
F20系列是世界上****的臺式薄膜厚度測量系統(tǒng),只需按下一個按鈕,不到一秒鐘即可同時測量厚度和折射率。設(shè)置也非常簡單,只需把設(shè)備連接到您運行Windows?系統(tǒng)的計算機USB端口,并連接樣品平臺就可以了。F20系列不同型號的選擇,主要取決于您需要測量的薄膜厚度(確定所需的波長范圍)。型號厚度范圍*波長范圍F2015nm-70μm380-1050nmF20-EXR15nm-250μm380-1700nmF20-NIR100nm-250μm950-1700nmF20-UV1nm-40μm190-1100nmF20-UVX1nm-250μm190-1700nmF20-XTμm-450μm1440-1690nm*取決于薄膜種類Filmetrics膜厚測試儀通過分析薄膜的反射光譜來測量薄膜的厚度,通過非可見光的測量,可以測量薄至1nm或厚至13mm的薄膜。測量結(jié)果可在幾秒鐘顯示:薄膜厚度、顏色、折射率甚至是表面粗糙度。1.有五種不同波長選擇(波長范圍從紫外220nm至近紅外1700nm)2.比較大樣品薄膜厚度的測量范圍是:3nm~25um3.精度高于、氧化物、氮化物;、Polyimides;3.光電鍍膜應(yīng)用:硬化膜、抗反射膜、濾波片。1.光源有壽命,不用時請關(guān)閉2.光纖易損,不要彎折,不要頻繁插拔3.精密儀器。Filmetrics F-HC膜厚儀合理價格
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位,是一家磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)擁有一支經(jīng)驗豐富、技術(shù)創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團隊,以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于把技術(shù)上的創(chuàng)新展現(xiàn)成對用戶產(chǎn)品上的貼心,為用戶帶來良好體驗。岱美儀器技術(shù)服務(wù)創(chuàng)始人陳玲玲,始終關(guān)注客戶,創(chuàng)新科技,竭誠為客戶提供良好的服務(wù)。