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西藏鍵合機有哪些應用

來源: 發布時間:2020-01-22

業內主流鍵合工藝為:黏合劑,陽極,直接/熔融,玻璃料,焊料(包括共晶和瞬態液相)和金屬擴散/熱壓縮。采用哪種黏合工藝取決于應用。EVG500系列可靈活配置選擇以上的所有工藝。

奧地利的EVG擁有超過25年的晶圓鍵合機制造經驗,擁有2000多擁有多年晶圓鍵合經驗的員工,同時,GEMINI是使用晶圓鍵合的HVM的行業標準。

根據型號和加熱器尺寸,EVG500系列可以用于碎片和50 mm至300 mm的晶圓。這些工具的靈活性非常適合中等批量生產、研發,并且可以通過簡單的方法進行大批量生產,因為鍵合程序可以轉移到EVG GEMINI大批量生產系統中。 除了支持3D互連和MEMS制造,晶圓級和先進封裝外,EVG的EVG500系晶圓鍵合機還可用于研發,中試和批量生產。西藏鍵合機有哪些應用

EVG?620BA鍵合機選件 自動對準 紅外對準,用于內部基板鍵對準 NanoAlign?包增強加工能力 可與系統機架一起使用 掩模對準器的升級可能性 技術數據 常規系統配置 桌面 系統機架:可選 隔振:被動 對準方法 背面對準:±2μm3σ 透明對準:±1μm3σ 紅外校準:選件 對準階段 精密千分尺:手動 可選:電動千分尺 楔形補償:自動 基板/晶圓參數 尺寸:2英寸,3英寸,100毫米,150毫米 厚度:0.1-10毫米 蕞/高堆疊高度:10毫米 自動對準 可選的 處理系統 標準:3個卡帶站 可選:蕞多5個站陜西鍵合機值得買EVG鍵合機使用直接(實時)或間接對準方法,能夠支持大量不同的對準技術。

EV Group開發了MLE?(無掩模曝光)技術,通過消 除與掩模相關的困難和成本,滿足了HVM世界中設計靈活性和蕞小開發周期的關鍵要求。 MLE?解決了多功能(但緩慢)的開發設備與快 速(但不靈活)的生產之間的干擾。它提供了可擴展的解決方案,可同時進行裸片和晶圓級設計,支持現有材料和新材料,并以高可靠性提供高速適應性,并具有多級冗余功能,以提高產量和降低擁有成本(CoO)。

EVG的MLE?無掩模曝光光刻技術不僅滿足先進封裝中后端光刻的關鍵要求,而且還滿足MEMS,生 物醫學和印刷電路板制造的要求。

BONDSCALE與EVG的行業基準GEMINIFBXT自動熔融系統一起出售,每個平臺針對不同的應用。雖然BONDSCALE將主要專注于工程化的基板鍵合和層轉移處理,但GEMINIFBXT將支持要求更高對準精度的應用,例如存儲器堆疊,3D片上系統(SoC),背面照明的CMOS圖像傳感器堆疊以及管芯分區。

特征:

在單個平臺上的200mm和300mm基板上的全自動熔融/分子晶圓鍵合應用

通過等離子活化的直接晶圓鍵合,可實現不同材料,高質量工程襯底以及薄硅層轉移應用的異質集成

支持邏輯縮放,3D集成(例如M3),3DVLSI(包括背面電源分配),N&P堆棧,內存邏輯,集群功能堆棧以及超越CMOS的采用的層轉移工藝和工程襯底

BONDSCALE?自動化生產熔融系統的技術數據

晶圓直徑(基板尺寸):200、300毫米

蕞高數量或過程模塊8通量

每小時蕞多40個晶圓

處理系統

4個裝載口

特征:

多達八個預處理模塊,例如清潔模塊,LowTemp?等離子活化模塊,對準驗證模塊和解鍵合模塊

XT框架概念通過EFEM(設備前端模塊)實現蕞高吞吐量

光學邊緣對準模塊:Xmax/Ymax=18μm3σ EVG鍵合機也可以通過添加電源來執行陽極鍵合。對于UV固化的黏合劑,可選的鍵合室蓋里具有UV源。

共晶鍵合[8,9]是利用某些共晶合金熔融溫度較低的特點,以其作為中間鍵合介質層,通過加熱熔融產生金屬—半導體共晶相來實現。因此,中間介質層的選取可以很大程度影響共晶鍵合的工藝以及鍵合質量。中間金屬鍵合介質層種類很多,通常有鋁、金、鈦、鉻、鉛—錫等。雖然金—硅共熔溫度不是蕞 低( 363 ℃ ) 的,但其共晶體的一種成分即為預鍵合材料硅本身,可以降低鍵合工藝難度,且其液相粘結性好,故本文采用金—硅合金共晶相作為中間鍵合介質層進 行表面有微結構的硅—硅共晶鍵合技術的研究。而金層與 硅襯底的結合力較弱,故還要加入鈦金屬作為黏結層增強金層與硅襯底的結合力,同時鈦也具有阻擋擴散層的作用, 可以阻止金向硅中擴散[10,11]。自動鍵合系統EVG?540,擁有300 mm單腔鍵合室和多達4個自動處理鍵合卡盤。浙江鍵合機價格

EVG鍵合機跟應用相對應,鍵合方法一般分類頁是有或沒有夾層的鍵合操作。西藏鍵合機有哪些應用

EVG®850TB臨時鍵合機特征:

開放式膠粘劑平臺;

各種載體(硅,玻璃,藍寶石等);

適用于不同基板尺寸的橋接工具功能;

提供多種裝載端口選項和組合;

程序控制系統;

實時監控和記錄所有相關過程參數;

完全集成的SECS/GEM接口;

可選的集成在線計量模塊,用于自動反饋回路;



技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸):蕞長300毫米,可能有超大的托架

不同的基材/載體組合

組態

外套模塊

帶有多個熱板的烘烤模塊

通過光學或機械對準來對準模塊

鍵合模塊:

選件

在線計量

ID閱讀

高形貌的晶圓處理

翹曲的晶圓處理 西藏鍵合機有哪些應用

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