F10-AR

無(wú)須處理涂層背面我們探頭設(shè)計(jì)能抑 制 1.5mm 厚基板 98% 的背面反射，使用更厚的鏡頭抑 制的更多。

就像我們所有的臺(tái)式儀器一樣，F(xiàn)10-AR 需要連接到您裝有 Windows 計(jì)算機(jī)的 USB 端口上并在數(shù)分鐘內(nèi)即可完成設(shè)定。

額外的好處：每臺(tái)系統(tǒng)內(nèi)建超過(guò)130種材料庫(kù), 隨著不同應(yīng)用更超過(guò)數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助（周一 - 周五）網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級(jí)計(jì)劃 成功測(cè)量光刻膠要面對(duì)一些獨(dú)特的挑戰(zhàn)， 而 Filmetrics 自動(dòng)測(cè)量系統(tǒng)成功地解決這些問(wèn)題。有機(jī)發(fā)光膜厚儀國(guó)內(nèi)代理

備用光源：

LAMP-TH1-5PAK：F10、F20、F30、F40、F50、和 F60 系統(tǒng)的非紫外光源。 5個(gè)/盒。1200 小時(shí)平均無(wú)故障。

LAMP-TH：F42F42 系統(tǒng)的光源。 1000 小時(shí)平均無(wú)故障。

LAMP-THF60：F60 系統(tǒng)的光源。 1000 小時(shí)平均無(wú)故障。

LAMP-THF80：F80 系統(tǒng)的光源。 1000 小時(shí)平均無(wú)故障。

LAMP-D2-L10290：L10290 氘光源。 2007年到2014年F20-UV的使用者。

LAMP-TH-L10290：L10290 鎢鹵素光源。 2007年到2014年F20-UV的使用者。

LAMP-D2-***T2：***T2光源需更換氘燈, 而鹵素?zé)艄庠葱韪鼡Q使用LAMP-TH1-5PAK. 導(dǎo)電膜膜厚儀**可選的厚度和折射率模塊讓您能夠充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。

F10-AR易于使用而且經(jīng)濟(jì)有效地分析減反涂層和鏡頭上的硬涂層F10-AR 是測(cè)試眼科減反涂層設(shè)計(jì)的儀器。 雖然價(jià)格**低于當(dāng)今絕大多數(shù)同類儀器，應(yīng)用幾項(xiàng)技術(shù)， F10-AR 使線上操作人員經(jīng)過(guò)幾分鐘的培訓(xùn)，就可以進(jìn)行厚度測(cè)量。

在用戶定義的任何波長(zhǎng)范圍內(nèi)都能進(jìn)行比較低、比較高和平均反射測(cè)試。

我們有專門的算法對(duì)硬涂層的局部反射失真進(jìn)行校正。 我們獨(dú)有的 AutoBaseline 能極大地增加基線間隔，提供比其它光纖探頭反射儀高出五倍的精確度。

利用可選的 UPG-F10-AR-HC 軟件升級(jí)能測(cè)量 0.25-15um 的硬涂層厚度。 在減反層存在的情況下也能對(duì)硬涂層厚度進(jìn)行測(cè)量。

F50 系列

包含的內(nèi)容：集成光譜儀/光源裝置光纖電纜4", 6" and 200mm 參考晶圓TS-SiO2-4-7200 厚度標(biāo)準(zhǔn)BK7 參考材料整平濾波器 (用于高反射基板)真空泵備用燈

型號(hào) 厚度范圍*波長(zhǎng)范圍

F50：20nm-70μm 380-1050nm

F50-UV：5nm-40μm 190-1100nm

F50-NIR：100nm-250μm 950-1700nm

F50-EXR：20nm-250μm 380-1700nm

F50-UVX：5nm-250μm 190-1700nm

F50-XT：0.2μm-450μm 1440-1690nm

F50-s980：4μm-1mm 960-1000nm

F50-s1310：7μm-2mm 1280-1340nm

F50-s1550：10μm-3mm 1520-1580nm

額外的好處：每臺(tái)系統(tǒng)內(nèi)建超過(guò)130種材料庫(kù), 隨著不同應(yīng)用更超過(guò)數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助（周一 - 周五）網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級(jí)計(jì)劃 產(chǎn)品型號(hào)：FSM 413EC, FSM 413MOT，F(xiàn)SM 413SA DP FSM 413C2C, FSM 8108 VITE C2C。

F10-ARc

獲得**精確的測(cè)量.自動(dòng)基準(zhǔn)功能**增加基準(zhǔn)間隔時(shí)間, 量測(cè)準(zhǔn)確性優(yōu)於其他光纖探頭反射測(cè)量系統(tǒng)5倍可選擇UPG - F10-AR - HC軟件升級(jí) 測(cè)量0.25-15μm硬涂層的厚度. 即使在防反射涂層存在時(shí)仍可測(cè)量硬涂層厚度我們***探頭設(shè)計(jì)可排除98％背面反射,當(dāng)鏡片比1.5mm 更厚時(shí), 可排除比例更高修正了硬膜層造成的局部反射扭曲現(xiàn)象。

F10-ARc：200nm - 15μm** 380-1050nm

當(dāng)您需要技術(shù)支援致電我們的應(yīng)用工程師，提供即時(shí)的24小時(shí)援助（週一至週五）網(wǎng)上的 “手把手” 

支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級(jí)計(jì)劃 F40測(cè)量范圍；20nm-40μm;波長(zhǎng)：400-850nm。導(dǎo)電膜膜厚儀值得買

產(chǎn)品名稱：紅外干涉厚度測(cè)量設(shè)備。有機(jī)發(fā)光膜厚儀國(guó)內(nèi)代理

電介質(zhì)成千上萬(wàn)的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué)，半導(dǎo)體，以及其它數(shù)十個(gè)行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測(cè)量所有的薄膜。 

測(cè)量范例氮化硅薄膜作為電介質(zhì)，鈍化層，或掩膜材料被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。這個(gè)案例中，我們用F20-UVX成功地測(cè)量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度，折射率，和消光系數(shù)。有趣的事，氮化硅薄膜的光學(xué)性質(zhì)與薄膜的分子當(dāng)量緊密相關(guān)。使用Filmetrics專有的氮化硅擴(kuò)散模型，F(xiàn)20-UVX可以很容易地測(cè)量氮化硅薄膜的厚度和光學(xué)性質(zhì)，不管他們是富硅，貧硅，還是分子當(dāng)量。 有機(jī)發(fā)光膜厚儀國(guó)內(nèi)代理

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司專注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā)，發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大。一批專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)，是實(shí)現(xiàn)企業(yè)戰(zhàn)略目標(biāo)的基礎(chǔ)，是企業(yè)持續(xù)發(fā)展的動(dòng)力。公司以誠(chéng)信為本，業(yè)務(wù)領(lǐng)域涵蓋磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)，我們本著對(duì)客戶負(fù)責(zé)，對(duì)員工負(fù)責(zé)，更是對(duì)公司發(fā)展負(fù)責(zé)的態(tài)度，爭(zhēng)取做到讓每位客戶滿意。公司深耕磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)，正積蓄著更大的能量，向更廣闊的空間、更寬泛的領(lǐng)域拓展。