EVG ® 770特征：

微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結構為SmartNIL ®

簡單實施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配，壓印和脫模過程中的實時圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學楔形誤差補償

可選的自動盒帶間處理

EVG ® 770技術數據：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2

對準：頂側顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm

較早印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

有效印記區域：長達50 x 50毫米

自動分離：支持的

前處理：涂層：液滴分配（可選）

納米壓印設備哪個好？預墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。聯電納米壓印研發生產

EVG ® 510 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執行

閉環冷卻水供應選項

外部浮雕和冷卻站

EVG ® 510 HE技術數據：

加熱器尺寸：150毫米 ，200毫米

比較大基板尺寸：150毫米，200毫米

**小基板尺寸：單芯片，100毫米

比較大接觸力：10、20、60 kN

比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C

夾盤系統/對準系統

150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200

200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT

真空：

標準：0.1毫巴

可選：0.00001 mbar

浙江納米壓印售后服務EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統。

    它為晶圓級光學元件開發、原型設計和制造提供了一種獨特的方法，可以方便地接觸***研發技術與材料。晶圓級納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術確保在如3D感應的應用中使用小尺寸的高 分辨率光學傳感器供應鏈合作推動晶圓級光學元件應用要在下一代光學傳感器的大眾化市場中推廣晶圓級生產，先進的粘合劑與抗蝕材料發揮著不可取代的作用。開發先進的光學材料，需要充分地研究化學、機械與光學特性，以及已被證實的大規模生產（HVM）的可擴展性。擁有在NIL圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性，以及自動化模制和脫模的專業知識，才能在已驗證的大規模生產中，以**小的形狀因子達到晶圓級光學元件的比較好性能。材料供應商與加工設備制造商之間的密切合作，促成了工藝流程的研發與改善，確保晶圓級光學元件的高質量和制造的可靠性。EVG和DELO的合作將支持雙方改善工藝流程與產品，并增強雙方的專業技能，從而適應當前與未來市場的要求。雙方的合作提供了成熟的材料與專業的工藝技術，并將加快新產品設計與原型制造的速度，為雙方的客戶保駕護航。“NILPhotonics解決方案支援中心的獨特之處是：它解決了行業內部需要用更短時間研發產品的需求，同時保障比較高的保密性。

HERCULES®NIL：完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實現300 mm的大批量生產

■批量生產低至40 nm的結構或更小尺寸（分辨率取決于過程和模板）

■結合了預處理（清潔/涂布/烘烤/冷卻）和SmartNIL®技術

■全自動壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復使用工作印章

■具備工作印章制造能力

EVG®770：連續重復的納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作

■用于晶圓級光學器件的微透鏡的高 效母模制造，直至SmartNIL®的納米結構

■不同類型的母版的簡單實現

■可變的光刻膠分配模式

■分配，壓印和脫模過程中的實時圖像

■用于壓印和脫模的原位力控制

EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商。

UV納米壓印光刻

EV Group提供完整的UV納米壓印光刻（UV-NIL）產品線，包括不同的***積壓印系統，大面積壓印機，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。除了柔軟的UV-NIL，EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高 效，強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度，高度均勻的圖案層和**少的殘留層，并具有易于擴展的晶圓尺寸和產量。EVG的SmartNI技術達到了納米壓印的長期預期，即納米壓印是一種用于大規模生產微米和納米級結構的高性能，低成本和具有批量生產能力的技術。

EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的，因為它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。本地納米壓印技術服務

EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺，可用于進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。聯電納米壓印研發生產

NIL已被證明是在大面積上實現納米級圖案的相當有成本效益的方法，因為它不受光學光刻所需的復雜光學器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供比較好圖案保真度nm）結構。

EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。

新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 聯電納米壓印研發生產

岱美儀器技術服務（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型公司。公司業務涵蓋磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發等，價格合理，品質有保證。公司將不斷增強企業重點競爭力，努力學習行業知識，遵守行業規范，植根于儀器儀表行業的發展。在社會各界的鼎力支持下，持續創新，不斷鑄造***服務體驗，為客戶成功提供堅實有力的支持。