NanoX-8000 系統主要性能

? 菜單式系統設置，一鍵式操作，自動數據存儲

? 一鍵式系統校準

? 支持連接MES系統，數據可導入SPC

? 具備異常報警，急停等功能，報警信息可儲存

? MTBF ≥ 1500 hrs

? 產能 : 45s/點 （移動 + 聚焦 + 測量）（掃描范圍 50um）

? 具備 Global alignment & Unit alignment

? 自動聚焦范圍 ： ± 0.3mm

? XY運動速度 **快

表面三維微觀形貌測量的意義

在生產中，表面三維微觀形貌對工程零件的許多技術性能的評家具有**直接的影響，而且表面三維評定參數由于能更***，更真實的反應零件表面的特征及衡量表面的質量而越來越受到重視，因此表面三維微觀形貌的測量就越顯重要。通過兌三維形貌的測量可以比較***的評定表面質量的優劣，進而確認加工方法的好壞以及設計要求的合理性，這樣就可以反過來通過知道加工，優化加工工藝以及加工出高質量的表面，確保零件使用功能的實現。

表面三位微觀形貌的此類昂方法非常豐富，通常可分為接觸時和非接觸時兩種，其中以非接觸式測量方法為主。

NanoX-8000主設備尺寸：1290(W)x1390(D)x2190(H) mm。半導體輪廓儀特點

滿足您需求的輪廓儀  

使用范圍廣: 兼容多種測量和觀察需求  

保護性: 非接觸式光學輪廓儀

耐用性更強， 使用無損 

可操作性:一鍵式操作，操作更簡單，更方便  

智能性:特殊形狀能夠只能計算特征參數  

個性化: 定制化客戶報告模式 

更好用戶體驗： 迅捷的售后服務，個性化應用軟件支持

1.精度高,壽命長---采用超高精度氣浮導軌作為直線測量基準，具有穩定性好、承載大、**磨損等優點，達到國內同類產品較高精度。  2.高精度光柵尺及進口采集卡---保證數據采樣分辨率，準確度高，穩定性好。（網絡） 太陽能電池輪廓儀保修期多久視場范圍：560×750um（10×物鏡） 具體視場范圍取決于所配物鏡及 CCD 相機 。

白光干涉輪廓儀對比激光共聚焦輪廓儀

白光干涉3D顯微鏡：

干涉面成像，

多層垂直掃描

比較好高度測量精度：< 1nm

高度精度不受物鏡影響

性價比好

激光共聚焦3D顯微鏡：

點掃描合成面成像，

多層垂直掃描

Keyence（日本）

比較好高度測量精度：～10nm

高度精度由物鏡決定，1um精度@10倍

90萬-130萬

三維光學輪廓儀采用白光軸向色差原理（性能優于白光干涉輪廓儀與激光干涉輪廓儀）對樣品表面進行快速、重復性高、高 分辨率的三維測量，測量范圍可從納米級粗糙度到毫米級的表面形貌，臺階高度，給MEMS、半導體材料、太陽能電池、醫療工程、制藥、生物材料，光學元件、陶瓷和先進材料的研發和生產提供了一個精確的、價格合理的計量方案。（來自網絡）

輪廓儀的性能

測量模式 ：

移相干涉（PSI），白光垂直掃描干涉（VSI），單色光垂直掃描干涉（CSI）

樣 品 臺 ：

150mm/200mm/300mm 樣品臺（可選配）

XY 平移：±25mm/150mm/200mm/300mm，傾斜：±5°

可選手動/電動樣品臺

CCD 相機像素：

標配：1280×960

視場范圍：

560×750um（10×物鏡）

具體視場范圍取決于所配物鏡及 CCD 相機

光學系統：

同軸照明無限遠干涉成像系統

光 源：

高 效 LED

Z 方向聚焦 80mm 手動聚焦（可選電動聚焦）

Z 方向掃描范圍 精密 PZT 掃描(可選擇高精密機械掃描，拓展達 10mm )

縱向分辨率 ＜0.1nm

RMS 重復性* 0.005nm，1σ

臺階測量** 準確度 ≤0.75％；重復性 ≤0.1%，1σ

橫向分辨率 ≥0.35um（100 倍物鏡）

檢測速度 ≤ 35um/sec , 與所選的 CCD 在結構上，輪廓儀基本上都是臺式的，而粗糙度儀以手持式的居多，當然也有臺式的。

    比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質，半導體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術在成本，復雜度，和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和強度，使得橢偏儀對超薄和復雜的薄膜堆有較強的測量能力。然而，偏振分析意味著需要昂貴的精密移動光學儀器。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應（絕大多數薄膜都是旋轉對稱）。因為不涉及任何移動設備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的優先，而橢偏儀側重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術都可用。而且具有快速，簡便，成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。輪廓儀可用于：散熱材料表面粗糙度分析（粗糙度控制），生物、醫藥新技術，微流控器件。晶圓輪廓儀代理商

具備異常報警，急停等功能，報警信息可儲存。半導體輪廓儀特點

關于三坐標測量輪廓度及粗糙度

  三坐標測量機是不能測量粗糙度的，至于測量零件的表面輪廓 ，要視三坐標的測量精度及零件表面輪廓度的要求了，如果你的三坐標測量機精度比較高，但零件輪廓度要求不可，是可以用三坐標來代替的。一般三坐標精度都在2-3um左右，而輪廓儀都在2um以內，還有就是三坐標可以測量大尺寸零件的輪廓，因為它有龍門式三坐標和關節臂三坐標，而輪廓儀主要是用來測量一些小的精密零件輪廓尺寸的，加上粗糙度模塊也可以測量粗糙度。 半導體輪廓儀特點

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