EVG ® 7200 LA特征:
專有SmartNIL ®技術,提供了****的印跡形大面積
經過驗證的技術,具有出色的復制保真度和均勻性
多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節省大量成本
強大且精確可控的處理
與所有市售的壓印材料兼容
EVG ® 7200 LA技術數據:
晶圓直徑(基板尺寸):直徑200毫米(比較大Gen3)(550 x 650毫米)
解析度:40 nm-10 μm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:SmartNIL ®
曝光源:大功率窄帶(> 400 mW /cm2)
對準:可選的光學對準:≤±15 μm
自動分離:支持的
迷你環境和氣候控制:可選的
工作印章制作:支持的
EVG提供不同的***積壓印系統,大面積壓印機,微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。紫外光納米壓印有哪些品牌
該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世。根據客戶的專門需求,公司對這些聚合物作出調整,使其具備其它特征。它們極其適合工業環境,在較短的生產周期時間內粘合各種微小的元件。此外,DELO紫外線LED固化設備與點膠閥的可靠度十分杰出。關于德路德路(DELO)是世界前列的工業粘合劑制造商,總部位于德國慕尼黑附近的Windach。在美國、中國、新加坡及日本均設有子公司。2019財政年,公司的780名員工創造了。該公司產品在全球范圍內廣泛應用于汽車、消費類電子產品與工業電子產品。幾乎每一部智能手機與超過一半的汽車上都使用該公司產品。DELO的客戶包括博世、戴姆勒、華為、歐司朗、西門子以及索尼等。關于EVGroup(EVG)EV集團(EVG)是為生產半導體、微機電系統(MEMS)、化合物半導體、功率器件以及納米技術器件制造提供設備與工藝解決方案的**供應商。該公司主要產品包括晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印光刻技術(NIL)與計量設備,,以及涂膠機、清洗機與檢測系統。EV集團創辦于1980年,可為遍及全球的眾多客戶與合作伙伴提供各類服務與支持。UV納米壓印芯片堆疊應用 EVG?770可用于連續重復的納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作。
納米壓印應用三:連續性UV納米壓印
EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合,分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
NIL已被證明是在大面積上實現納米級圖案的相當有成本效益的方法,因為它不受光學光刻所需的復雜光學器件的限制,并且它可以為極小尺寸(小于100分)提供比較好圖案保真度nm)結構。
EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。
新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的SmartNIL技術是基于紫外線曝光的全場壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術。
對于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括用于印章的釋放機構。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力,以實現高產量的壓印,該卡盤支持軟性和硬性印模。
EVG610特征:
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形誤差補償機制
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術
**小化系統占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術支持
多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)
敏捷處理和光刻工藝之間的轉換
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
附加功能:
鍵對準
紅外對準
納米壓印光刻
μ接觸印刷
EVG ? 770是分步重復納米壓印光刻系統,使用分步重復納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作。海南納米壓印圖像傳感器應用
NIL已被證明是在大面積上實現納米級圖案的相當有成本效益的方法。紫外光納米壓印有哪些品牌
據外媒報道,美國威斯康星大學麥迪遜分校(UWMadison)的研究人員們,已經同合作伙伴聯手實現了一種突破性的方法。不僅**簡化了低成本高性能、無線靈活的金屬氧化物半導體場效應晶體管(MOSFET)的制造工藝,還克服了許多使用標準技術制造設備時所遇到的操作上的問題。該技術可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板,并在可穿戴電子設備和彎曲傳感器等領域派上大用場。研究人員稱,這項突破性的納米壓印平板印刷制造工藝,可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能,MOSFET已經迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管。為了滿足不斷縮小的集成電路需求,MOSFET尺寸也在不斷變小,然而這也引發了一些問題。紫外光納米壓印有哪些品牌
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