EVG ® 105—晶圓烘烤模塊
設(shè)計(jì)理念:?jiǎn)螜C(jī)EVG ® 105烘烤模塊是專(zhuān)為軟或后曝光烘烤過(guò)程而設(shè)計(jì)。
特點(diǎn):可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤,曝光后烘烤和硬烘烤過(guò)程。受控的烘烤環(huán)境可確保均勻蒸發(fā)。可編程的接近銷(xiāo)可提供對(duì)光刻膠硬化過(guò)程和溫度曲線的**/佳控制。EVG105烘烤模塊可以同時(shí)處理300 mm的晶圓尺寸或4個(gè)100 mm的晶圓。
特征
**烘烤模塊
晶片尺寸**/大為300毫米,或同時(shí)**多四個(gè)100毫米晶片
溫度均勻性≤±1°C @ 100°C,**/高250°C烘烤溫度
用于手動(dòng)和安全地裝載/卸載晶片的裝載銷(xiāo)
烘烤定時(shí)器
基材真空(直接接觸烘烤)
N 2吹掃和近程烘烤0-1 mm距離晶片至加熱板可選
不規(guī)則形狀的基材
技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)300毫米
烤盤(pán):
溫度范圍:≤250°C
手動(dòng)將升降桿調(diào)整到所需的接近間隙
EVG所有光刻設(shè)備平臺(tái)均為300mm。陜西光刻機(jī)質(zhì)量怎么樣
光刻機(jī)處理結(jié)果:EVG在光刻技術(shù)方面的核心競(jìng)爭(zhēng)力在于其掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(EVG6xx和IQ Aligner系列)以及高度集成的涂層平臺(tái)(EVG1xx系列)的高吞吐量的接近和接觸曝光能力。EVG的所有光刻設(shè)備平臺(tái)均為300mm,可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,并輔以其用于從上到下側(cè)對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證的計(jì)量工具。高級(jí)封裝:在EVG®IQAligner®上結(jié)合NanoSpray?曝光的涂層TSV底部開(kāi)口 ;在EVG的IQ
Aligner NT®上進(jìn)行撞擊40μm厚抗蝕劑;負(fù)側(cè)壁,帶有金屬兼容的剝離抗蝕劑涂層; 金屬墊在結(jié)構(gòu)的中間;用于LIGA結(jié)構(gòu)的高縱橫比結(jié)構(gòu),用EVG® IQ Aligner®曝光200μm厚的抗蝕劑的結(jié)果;西門(mén)子星狀測(cè)試圖暴露在EVG®6200NT上,展示了高/分辨率的厚抗蝕劑圖形處理能力;MEMS結(jié)構(gòu)在20μm厚的抗蝕劑圖形化的結(jié)果。 上海光刻機(jī)質(zhì)量怎么樣新型的EVG120帶有通用和全自動(dòng)光刻膠處理工具,能夠處理各種形狀和尺寸達(dá)200 mm / 8“的基片。
EVG620 NT技術(shù)數(shù)據(jù):
曝光源:
汞光源/紫外線LED光源
先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能:
手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)/原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證
自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)
動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)/自動(dòng)邊緣對(duì)準(zhǔn)
對(duì)準(zhǔn)偏移校正算法
EVG620 NT產(chǎn)量:
全自動(dòng):第/一批生產(chǎn)量:每小時(shí)180片
全自動(dòng):吞吐量對(duì)準(zhǔn):每小時(shí)140片晶圓
晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)150毫米
對(duì)準(zhǔn)方式:
上側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±0.5 μm
底側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±1,0 μm
紅外校準(zhǔn):≤±2,0 μm /具體取決于基材
鍵對(duì)準(zhǔn):≤±2,0 μm
NIL對(duì)準(zhǔn):≤±3.0 μm
曝光設(shè)定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式
楔形補(bǔ)償:全自動(dòng)軟件控制
曝光選項(xiàng):間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光
系統(tǒng)控制:
操作系統(tǒng):Windows
文件共享和備份解決方案/無(wú)限制 程序和參數(shù)
多語(yǔ)言用戶(hù)GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR
實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問(wèn),診斷和故障排除
工業(yè)自動(dòng)化功能:
盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理
納米壓印光刻技術(shù):SmartNIL ®
EV集團(tuán)(EVG)是面向MEMS,納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)的晶圓鍵合機(jī)和光刻設(shè)備的**供應(yīng)商,***宣布已收到其制造設(shè)備和服務(wù)的***組合產(chǎn)品組合的多個(gè)訂單,這些產(chǎn)品和服務(wù)旨在滿足對(duì)晶圓的新興需求,水平光學(xué)(WLO)和3D感應(yīng)。市場(chǎng)**的產(chǎn)品組合包括EVG®770自動(dòng)UV-納米壓印光刻(UV-NIL)步進(jìn)器,用于步進(jìn)重復(fù)式主圖章制造,用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的IQAligner®UV壓印系統(tǒng)以及EVG ®40NT自動(dòng)測(cè)量系統(tǒng),用于對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證。EVG的WLO解決方案由該公司的NILPhotonics®能力中心提供支持。
使用** 欣的壓印光刻技術(shù)和鍵合對(duì)準(zhǔn)技術(shù)在晶圓級(jí)制造微透鏡,衍射光學(xué)元件和其他光學(xué)組件可帶來(lái)諸多好處。這些措施包括通過(guò)高度并行的制造工藝降低擁有成本,以及通過(guò)堆疊使**終器件的外形尺寸更小。EVG是納米壓印光刻和微成型領(lǐng)域的先驅(qū)和市場(chǎng)***,擁有全球比較大的工具安裝基礎(chǔ)。 EVG的大批量制造系統(tǒng)目的是在以**/佳的成本效率與**/高的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)相結(jié)合,為全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施提供支持。
EVG ® 620 NT 掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(半自動(dòng)/自動(dòng))
特色:EVG ® 620 NT提供國(guó)家的本領(lǐng)域掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)在**小化的占位面積,支持高達(dá)150毫米晶圓尺寸。
技術(shù)數(shù)據(jù):EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱(chēng),在**小的占位面積上結(jié)合了先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能和**/優(yōu)化的總體擁有成本,提供了**/先進(jìn)的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。它是光學(xué)雙面光刻的理想工具,可提供半自動(dòng)或自動(dòng)配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標(biāo)準(zhǔn)。擁有操作員友好型軟件,**短的掩模和工具更換時(shí)間以及高/效的全球服務(wù)和支持,使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。 EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的光刻膠旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn)。中國(guó)香港光刻機(jī)實(shí)際價(jià)格
岱美是EVG光刻機(jī)在中國(guó)的代理商,提供本地化的質(zhì)量服務(wù)。陜西光刻機(jī)質(zhì)量怎么樣
這使得可以在工業(yè)水平上開(kāi)發(fā)新的設(shè)備或工藝,這不僅需要高度的靈活性,而且需要可控和可重復(fù)的處理。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn),并將這些知識(shí)技能整合到EVG100系列中,可以利用我們的工藝知識(shí)為客戶(hù)提供支持。
光刻膠處理設(shè)備有:EVG101光刻膠處理,EVG105光刻膠烘焙機(jī),EVG120光刻膠處理自動(dòng)化系統(tǒng);EVG150 光刻膠處理自動(dòng)化系統(tǒng)。如果您需要了解每個(gè)型號(hào)的特點(diǎn)和參數(shù),請(qǐng)聯(lián)系我們,我們會(huì)給您提供**/新的資料。或者訪問(wèn)我們的官網(wǎng)獲取相關(guān)信息。
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岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大,現(xiàn)有一支專(zhuān)業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì),各種專(zhuān)業(yè)設(shè)備齊全。專(zhuān)業(yè)的團(tuán)隊(duì)大多數(shù)員工都有多年工作經(jīng)驗(yàn),熟悉行業(yè)專(zhuān)業(yè)知識(shí)技能,致力于發(fā)展岱美儀器技術(shù)服務(wù)的品牌。我公司擁有強(qiáng)大的技術(shù)實(shí)力,多年來(lái)一直專(zhuān)注于磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣(mài)除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢(xún)服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣(mài)除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢(xún)服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】的發(fā)展和創(chuàng)新,打造高指標(biāo)產(chǎn)品和服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司主營(yíng)業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā),堅(jiān)持“質(zhì)量保證、良好服務(wù)、顧客滿意”的質(zhì)量方針,贏得廣大客戶(hù)的支持和信賴(lài)。