納米壓印設備哪個好?預墨印章用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。該技術用于表面化學的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。
納米壓印設備可以進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。
將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉變溫度以上,從而將材料轉變為粘性狀態。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
EVG的納米壓印設備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三代(550 mm x 650 mm)的基板上實現。四川晶片納米壓印
EVG ® 7200 LA特征:
專有SmartNIL ®技術,提供了****的印跡形大面積
經過驗證的技術,具有出色的復制保真度和均勻性
多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節省大量成本
強大且精確可控的處理
與所有市售的壓印材料兼容
EVG ® 7200 LA技術數據:
晶圓直徑(基板尺寸):直徑200毫米(比較大Gen3)(550 x 650毫米)
解析度:40 nm-10 μm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:SmartNIL ®
曝光源:大功率窄帶(> 400 mW /cm2)
對準:可選的光學對準:≤±15 μm
自動分離:支持的
迷你環境和氣候控制:可選的
工作印章制作:支持的
碳化硅納米壓印原理SmartNIL集成多次使用的軟標記處理功能,并具有顯著的擁有成本的優勢,同時保留可擴展性和易于維護的特點。
為了優化工藝鏈,HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造,這是大批量生產的基石,不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能,該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環境,以確保比較低的缺 陷率和比較高質量的原版復制。
通過為大批量生產提供完整的NIL解決方案,HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設備解決方案中的領導地位。
*根據ISO 14644
HERCULES ® NIL特征:
批量生產**小40 nm *或更小的結構
聯合預處理(清潔/涂層/烘烤/寒意)和SmartNIL ®
體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度
全自動壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源,固化時間**快
優化的模塊化平臺可實現高吞吐量
*分辨率取決于過程和模板
首先準備一塊柔性薄膜作為彈性基底層,然后將巰基-烯預聚物旋涂在具有表面結構的母板上,彈性薄膜壓印在巰基-烯層上,與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環境中固化通過“點擊反應”形成交聯聚合物,不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后,彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起,獲得雙層結構的復合柔性模板。由于良好的材料特性,剛性巰基-烯結構層可以實現較高的分辨率。因此,利用該方法可以制備高 分辨的復合柔性模板,經過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結構復合軟壓印模板。相關研究成果發表于《納米科技與納米技術雜志》(JournalofNanoscienceandNanotechnology)。(來自網絡。 EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,因為它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。
納米壓印微影技術可望優先導入LCD面板領域原本計劃應用在半導體生產制程的納米壓印微影技術(Nano-ImpLithography;NIL),現將率先應用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術。據ETNews報導,南韓顯示器面板企業LCD制程研發小組,未確認NIL設備實際圖樣形成能力,直接參訪海外NIL設備廠。該制程研發小組透露,若引進相關設備,將可提升面板性能。并已展開具體供貨協商。NIL是以刻印圖樣的壓印機,像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后,再以壓印機接觸施加壓力,印出面板圖樣。之后再經過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣,不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程,但省落偏光膜貼附制程,可維持同樣的生產成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣,將不會發生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高,因配線較多,較難確保開口率(ApertureRatio)。EVG的SmartNIL技術是基于紫外線曝光的全場壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術。碳化硅納米壓印原理
EVG紫外光納米壓印系統還有:EVG?7200LA,HERCULES?NIL,EVG?770,IQAligner?等。四川晶片納米壓印
UV納米壓印光刻
EV Group提供完整的UV納米壓印光刻(UV-NIL)產品線,包括不同的***積壓印系統,大面積壓印機,微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。除了柔軟的UV-NIL,EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高 效,強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,高度均勻的圖案層和**少的殘留層,并具有易于擴展的晶圓尺寸和產量。EVG的SmartNI技術達到了納米壓印的長期預期,即納米壓印是一種用于大規模生產微米和納米級結構的高性能,低成本和具有批量生產能力的技術。
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