納米壓印應用二：面板尺寸的大面積納米壓印

EVG專有的且經過大量證明的SmartNIL技術的***進展，已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上實現。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術和光子元件等應用，至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經濟、高 效的方法，因為它不受光學系統的限制，并且可以為**小的結構提供比較好的圖案保真度。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。

EVG的納米壓印設備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三代（550 mm x 650 mm）的基板上實現。晶片納米壓印技術原理

    在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心，雙方合作研發用于制造光學傳感器的新材料，以及適用于大眾化市場的晶圓級光學元件。（奧地利）與WINDACH（德國），2019年11月27日――EV集團(EVG)這一全球**的為微機電系統、納米技術與半導體市場提供晶圓鍵合與光刻設備的供應商，***宣布與高科技工業粘合劑制造商DELO在晶圓級光學元件(WLO)領域開展合作。這兩家公司均在光學傳感器制造領域處于**地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設備與DELO先進的粘合劑與抗蝕材料，在工業，汽車，消費類電子產品市場開發與應用新型光學設備，例如生物特征身份認證，面部識別。目前雙方正在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心（位于EVG總部，奧地利Florian）以及DELO在德國Windach的總部展開合作。雙方致力于改善與加快材料研發周期。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應鏈的客戶與合作伙伴提供了開放的創新孵化器，旨在通過合作來縮短創新設備與應用的研發與推廣周期。該中心的基礎設施包括**技術的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設備，例如分步重復母版，透鏡模制，以及EVG的SmartNIL?技術，晶圓鍵合與必要的測量設備。全域納米壓印學校會用嗎EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺，可用于進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。

SmartNIL是行業**的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。

*分辨率取決于過程和模板

如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。

EVG ® 770特征：

微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結構為SmartNIL ®

簡單實施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配，壓印和脫模過程中的實時圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學楔形誤差補償

可選的自動盒帶間處理

EVG ® 770技術數據：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2

對準：頂側顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm

較早印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

有效印記區域：長達50 x 50毫米

自動分離：支持的

前處理：涂層：液滴分配（可選）

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術。

IQ Aligner UV-NIL特征：

用于光學元件的微成型應用

用于全場納米壓印應用

三個**控制的Z軸，可在印模和基材之間實現出色的楔形補償

三個**控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制

利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準和紫外線粘合功能

IQ Aligner UV-NIL技術數據：

晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型

曝光源：汞光源

對準：≤±0.5微米

自動分離：支持的

前處理：涂層：水坑點膠（可選）

迷你環境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

EVG ? 610也可以設計成紫外線納米壓印光刻系統。氮化鎵納米壓印可以免稅嗎

EVG提供不同的***積壓印系統，大面積壓印機，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。晶片納米壓印技術原理

UV納米壓印光刻

EV Group提供完整的UV納米壓印光刻（UV-NIL）產品線，包括不同的***積壓印系統，大面積壓印機，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。除了柔軟的UV-NIL，EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高 效，強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度，高度均勻的圖案層和**少的殘留層，并具有易于擴展的晶圓尺寸和產量。EVG的SmartNI技術達到了納米壓印的長期預期，即納米壓印是一種用于大規模生產微米和納米級結構的高性能，低成本和具有批量生產能力的技術。

晶片納米壓印技術原理

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