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晶圓納米壓印用于生物芯片

來源: 發布時間:2020-06-22

EVG ® 520 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準工藝,用于光學對準的壓印和壓印

氣動壓花選項

軟件控制的流程執行


EVG ® 520 HE技術數據

加熱器尺寸:150毫米,200毫米

比較大基板尺寸:150毫米,200毫米

**小基板尺寸:單芯片,100毫米

比較大接觸力:10、20、60、100 kN

比較高溫度:標準:350°C;可選:550°C

粘合卡盤系統/對準系統

150毫米加熱器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200

200毫米加熱器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT

真空:

標準:0.1毫巴

可選:0.00001 mbar HERCULES ? NIL是完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統。晶圓納米壓印用于生物芯片

納米壓印應用一:鏡片成型

晶圓級光學(WLO)的制造得到EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備的支持。使用從晶片尺寸的主印模復制來的工作印模,通過軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉移到光學聚合物材料中。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,可以輕松地適應各種材料組合,以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制的優先。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


芯片納米壓印參數EVG的納米壓印光刻(NIL) - SmartNIL ? 是用于大批量生產的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。

對于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括用于印章的釋放機構。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力,以實現高產量的壓印,該卡盤支持軟性和硬性印模。


EVG610特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


納米壓印光刻(NIL) -SmartNIL ®

用于大批量生產的大面積軟UV納米壓印光刻工藝

介紹:

EVG是納米壓印光刻(NIL)的市場**設備供應商。EVG開拓了這種非常規光刻技術多年,掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。EVG的專有SmartNIL技術通過多年的研究,開發和現場經驗進行了優化,以解決常規光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。

如果要獲得詳細信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司或者訪問官網。


EV Group的一系列高精度熱壓花系統是基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。

曲面基底上的納米結構在許多領域都有著重要應用,例如仿生學、柔性電子學和光學器件等。傳統的納米壓印技術通常采用剛性模板,可以實現亞10nm的分辨率,但是模板不能彎折,無法在曲面基底上壓印制備納米結構。而采用彈性模板的軟壓印技術可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸,實現結構在非平面基底上的壓印復制,但是由于彈性模板的楊氏模量較低,所以壓印結構的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發展現狀,結合傳統的納米壓印技術和軟壓印技術,中國科學院光電技術研究所團隊發展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復合軟壓印模板的制備方法,該模板包含剛性結構層和彈性基底層。(來自網絡,侵權請聯系我們進行刪除,謝謝?。?HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實現300 mm的大批量生產。廣東納米壓印現場服務

EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統。晶圓納米壓印用于生物芯片

    面板廠為補償較低的開口率,多運用在背光模塊搭載較多LED的技術,但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程,可確保適當的開口率,降低用電量。利用一般曝光設備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板,需要經過數十次的曝光制程。不僅制程時間長,經過多次曝光后,在圖樣間會形成細微的縫隙,無法完整顯示影像。若將NIL技術應用在5代設備,可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板,6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業者表示,在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質量的生產制程,是LCD領域中***一個創新任務。若加速NIL制程導入LCD生產的時程,偏光膜企業的營收可能減少。(來自網絡。晶圓納米壓印用于生物芯片

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