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重慶納米壓印高性價比選擇

來源: 發布時間:2020-06-24

      **的衍射波導設計商和制造商WaveOptics***宣布與EV Group(EVG)進行合作,EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的**供應商,以帶來高性能增強現實( AR)波導以當今業界*低的成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關鍵光學組件。

      WaveOptics首席執行官David Hayes評論:“這一合作伙伴關系標志著增強現實行業的轉折點,是大規模生產高質量增強現實解決方案的關鍵步驟,這是迄今為止尚無法實現的能力。” EVG的專業知識與我們可擴展的通用技術的結合將使到明年年底,AR終端用戶產品的市場價格將低于600美元。“這項合作是釋放AR可穿戴設備發展的關鍵;我們共同處于有利位置,可以在AR中引入大眾市場創新,以比以往更低的成本開辟了可擴展性的新途徑。” EVG ? 520 HE是熱壓印系統。重慶納米壓印高性價比選擇

       通過中心提供的試驗生產線基礎設施,WaveOptics將超越其客戶對下個季度的預期需求,并有一條可靠的途徑將大批量生產工藝和設備轉移至能夠大規模生產波導的指定設施適用于全球前列OEM品牌。

      WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實現的價格提供高性能,商用波導來幫助客戶將AR顯示器推向市場的承諾。利用EVG在批量生產設備和工藝技術方面的專業知識,到2019年,AR終端用戶產品將以不到600美元的價格進入市場,這是當今行業中的*低價位。 官方納米壓印有哪些品牌EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統。

IQ Aligner UV-NIL 自動化紫外線納米壓印光刻系統

應用:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統

IQ Aligner UV-NIL系統允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進行微成型和納米壓印工藝,非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統從從晶圓尺寸的主圖章復制的軟性圖章開始,提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應。此外,EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,包括所有相關的材料專業知識。EV Group專有的卡盤設計可為高產量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機制。


納米壓印光刻(NIL)技術

EVG是納米壓印光刻(NIL)設備和集成工藝的市場**供應商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,并實現了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產。NIL是產生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當有成本效益的工藝,可用于生物MEMS,微流體,電子學以及**近各種衍射光學元件的各種商業應用。


其中EVG紫外光納米壓印系統型號包含:

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®


熱壓納米壓抑系統型號包含:

EVG®510HE

EVG®520HE


詳細的參數,請聯系我們岱美有限公司。


EVG的納米壓印設備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三代(550 mm x 650 mm)的基板上實現。

SmartNIL是行業**的NIL技術,可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化,并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合,可實現****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本,大批量替代光刻技術。

*分辨率取決于過程和模板


如果需要詳細的信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,因為它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。北京納米壓印研發可以用嗎

EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。重慶納米壓印高性價比選擇

EVG610特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG610附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


EVG610技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL:比較大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外線LED光源

自動分離:不支持

工作印章制作:外部


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岱美儀器技術服務(上海)有限公司位于中國(上海)自由貿易試驗區加太路39號第五層六十五部位,擁有一支專業的技術團隊。專業的團隊大多數員工都有多年工作經驗,熟悉行業專業知識技能,致力于發展岱美儀器技術服務的品牌。公司堅持以客戶為中心、磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】市場為導向,重信譽,保質量,想客戶之所想,急用戶之所急,全力以赴滿足客戶的一切需要。自公司成立以來,一直秉承“以質量求生存,以信譽求發展”的經營理念,始終堅持以客戶的需求和滿意為重點,為客戶提供良好的磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發,從而使公司不斷發展壯大。

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