據外媒報道,美國威斯康星大學麥迪遜分校(UWMadison)的研究人員們,已經同合作伙伴聯手實現了一種突破性的方法。不僅**簡化了低成本高性能、無線靈活的金屬氧化物半導體場效應晶體管(MOSFET)的制造工藝,還克服了許多使用標準技術制造設備時所遇到的操作上的問題。該技術可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板,并在可穿戴電子設備和彎曲傳感器等領域派上大用場。研究人員稱,這項突破性的納米壓印平板印刷制造工藝,可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能,MOSFET已經迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管。為了滿足不斷縮小的集成電路需求,MOSFET尺寸也在不斷變小,然而這也引發了一些問題。EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻(UV-NIL)產品線。晶片納米壓印國內代理
NIL系統肖特增強現實負責人RuedigerSprengard博士表示:“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm,對于實現我們客戶滿足當今和未來**AR/MR設備不斷增長的市場需求所需的規模經濟產量來說至關重要。通過攜手合作,EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設備和供應鏈的就緒性?!痹诖酥?,使用光刻/納米壓印技術對具有光子學應用結構的玻璃基板進行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設備推向大眾消費和工業市場邁出的重要一步。不過,在這些較大的基板上保持高基板質量和工藝均勻性是很難控制的,需要先進的自動化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術得益于多年的研究、開發和實驗,旨在滿足納米圖案成形的需求,經過了現場驗證,能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴展到大面積基板。去年六月,EVG推出了HERCULES?NIL300mm,將SmartNIL引入300-mm制造,滿足各種設備和應用的生產需求,其中包括AR、MR和虛擬現實(VR)頭戴顯示設備的光學器件以及3D傳感器、生物醫療設備、納米光子學和等離子電子學。集成到SmartNIL?UV-NIL系統的全模塊化EVG?HERCULES?。光刻納米壓印免稅價格EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統。
EVG610特征:
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形誤差補償機制
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術
**小化系統占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術支持
多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)
敏捷處理和光刻工藝之間的轉換
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG610附加功能:
鍵對準
紅外對準
納米壓印光刻
μ接觸印刷
EVG610技術數據:
晶圓直徑(基板尺寸)
標準光刻:比較大150毫米的碎片
柔軟的UV-NIL:比較大150毫米的碎片
解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:柔軟的UV-NIL
曝光源:汞光源或紫外線LED光源
自動分離:不支持
工作印章制作:外部
它為晶圓級光學元件開發、原型設計和制造提供了一種獨特的方法,可以方便地接觸***研發技術與材料。晶圓級納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術確保在如3D感應的應用中使用小尺寸的高 分辨率光學傳感器供應鏈合作推動晶圓級光學元件應用要在下一代光學傳感器的大眾化市場中推廣晶圓級生產,先進的粘合劑與抗蝕材料發揮著不可取代的作用。開發先進的光學材料,需要充分地研究化學、機械與光學特性,以及已被證實的大規模生產(HVM)的可擴展性。擁有在NIL圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性,以及自動化模制和脫模的專業知識,才能在已驗證的大規模生產中,以**小的形狀因子達到晶圓級光學元件的比較好性能。材料供應商與加工設備制造商之間的密切合作,促成了工藝流程的研發與改善,確保晶圓級光學元件的高質量和制造的可靠性。EVG和DELO的合作將支持雙方改善工藝流程與產品,并增強雙方的專業技能,從而適應當前與未來市場的要求。雙方的合作提供了成熟的材料與專業的工藝技術,并將加快新產品設計與原型制造的速度,為雙方的客戶保駕護航?!癗ILPhotonics解決方案支援中心的獨特之處是:它解決了行業內部需要用更短時間研發產品的需求,同時保障比較高的保密性。EVG紫外光納米壓印系統有: EVG?610,EVG?620NT,EVG?6200NT,EVG?720,EVG?7200等。
納米壓印設備哪個好?預墨印章用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。該技術用于表面化學的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。
納米壓印設備可以進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。
將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉變溫度以上,從而將材料轉變為粘性狀態。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術。研究所納米壓印美元價
EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統。晶片納米壓印國內代理
NIL已被證明是在大面積上實現納米級圖案的相當有成本效益的方法,因為它不受光學光刻所需的復雜光學器件的限制,并且它可以為極小尺寸(小于100分)提供比較好圖案保真度nm)結構。
EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。
新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 晶片納米壓印國內代理
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