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低溫光刻機功率器件應用

來源: 發布時間:2020-09-27

HERCULES 光刻軌道系統特征:

生產平臺以**小的占地面積結合了EVG精密對準和光刻膠處理系統的所有優勢;

多功能平臺支持各種形狀,尺寸,高度變形的模具晶片甚至托盤的全自動處理;

高達52,000 cP的涂層可制造高度高達300微米的超厚光刻膠特征;

CoverSpin TM旋轉蓋可降低光刻膠消耗并優化光刻膠涂層的均勻性;

OmniSpray ®涂覆用于高地形表面的優化的涂層;

納流®涂布,并通過結構的保護;

自動面膜處理和存儲;

光學邊緣曝光和/或溶劑清潔以去除邊緣顆粒;

使用橋接工具系統對多種尺寸的晶圓進行易碎,薄或翹曲的晶圓處理;

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統;

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)。 HERCULES可以配置成處理彎曲,翹曲,變薄或非SEMI標準形狀的晶片和基片。低溫光刻機功率器件應用

EVG620 NT或完全容納的EVG620

NT Gen2掩模對準系統配備了集成的振動隔離功能,可在各種應用中實現出色的曝光效果,例如,對薄而厚的光刻膠進行曝光,對深腔進行構圖并形成可比的形貌,以及對薄而易碎的材料(例如化合物半導體)進行加工。此外,半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。


EVG620 NT特征:

晶圓/基板尺寸從小到150 mm /

6''

系統設計支持光刻工藝的多功能性

易碎,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,更換時間短

帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列 貴州傳感器光刻機HERCULES的橋接工具系統可對多種尺寸的晶圓進行易碎,薄或翹曲的晶圓處理。

EVG ® 150光刻膠處理系統技術數據:

模塊數:

工藝模塊:6

烘烤/冷卻模塊:**多20個

工業自動化功能:

Ergo裝載盒式工作站/ SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口

智能過程控制和數據分析功能(框架軟件平臺)

用于過程和機器控制的集成分析功能

并行任務/排隊任務處理功能

設備和過程性能跟/蹤功能

智能處理功能

事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤

晶圓直徑(基板尺寸):高達300毫米


可用模塊:

旋涂/ OmniSpray ® /開發

烘烤/冷卻

晶圓處理選項:

單/雙EE /邊緣處理/晶圓翻轉


彎曲/翹曲/薄晶圓處理


EVG ® 6200 NT掩模對準系統(半自動/自動)

特色:EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。

技術數據:EVG6200 NT以其自動化靈活性和可靠性而著稱,可在**小的占位面積上提供**/先進的掩模對準技術,并具有**/高的產能,先進的對準功能和優化的總擁有成本。操作員友好型軟件,**短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務和支持使它成為任何制造環境的理想解決方案。EVG6200 NT或完全安裝的EVG6200 NT Gen2掩模對準系統有半自動或自動配置,并配有集成的振動隔離功能,可在廣/泛的應用中實現出色的曝光效果,例如薄和厚光刻膠的曝光,深腔和類似地形的圖案,以及薄而易碎的材料(例如化合物半導體)的加工。此外,半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。 岱美是EVG光刻機在中國的代理商,提供本地化的質量服務。

IQ Aligner®NT自動掩模對準系統

特色:IQ Aligner®在**/高吞吐量NT經過優化零協助非接觸式近程處理。

技術數據:IQ Aligner NT是用于大批量應用的生產力**/高,技術**/先進的自動掩模對準系統。該系統具有**/先進的打印間隙控制和零輔助雙尺寸晶圓處理能力,可完全滿足大批量制造(HVM)的需求。與EVG的上一代IQ

Aligner系統相比,它的吞吐量提高了2倍,對準精度提高了2倍,是所有掩模對準器中**/高的吞吐量。IQ Aligner NT超越了對后端光刻應用**苛刻的要求,同時與競爭性系統相比,其掩模成本降低了30%,而競爭系統超出了掩模對準工具所支持的**/高吞吐量。 EVG已經與研究機構合作超過35年,能夠深入了解他們的獨特需求。廣西光刻機現場服務

可以使用用于壓印光刻的工具,例如紫外光納米壓印光刻,熱壓印或微接觸印刷。低溫光刻機功率器件應用

IQ Aligner特征:

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /

8''

由于外部晶圓楔形測量,實現了非接觸式接近模式

增強的振動隔離,有效減少誤差

各種對準功能提高了過程靈活性

跳動控制對準功能,提高了效率

多種晶圓尺寸的易碎,薄或翹曲的晶圓處理

高地表形貌晶圓加工經驗

手動基板裝載能力

遠程技術支持和SECS / GEM兼容性


IQ Aligner附加功能:

紅外對準–透射和/或反射


IQ Aligner技術數據:

楔形補償:全自動軟件控制

非接觸式

先進的對準功能:自動對準;大間隙對準;跳動控制對準;動態對準 低溫光刻機功率器件應用

岱美儀器技術服務(上海)有限公司辦公設施齊全,辦公環境優越,為員工打造良好的辦公環境。在岱美儀器技術服務近多年發展歷史,公司旗下現有品牌岱美儀器技術服務等。公司不僅*提供專業的磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】,同時還建立了完善的售后服務體系,為客戶提供良好的產品和服務。自公司成立以來,一直秉承“以質量求生存,以信譽求發展”的經營理念,始終堅持以客戶的需求和滿意為重點,為客戶提供良好的磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發,從而使公司不斷發展壯大。

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