納米壓印應用二：面板尺寸的大面積納米壓印

EVG專有的且經過大量證明的SmartNIL技術的***進展，已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上實現。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術和光子元件等應用，至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經濟、高 效的方法，因為它不受光學系統的限制，并且可以為**小的結構提供比較好的圖案保真度。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。

EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統。海南納米壓印用途是什么

EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統。

用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統®技術，在100毫米范圍內。

EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。操作員友好型軟件，**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務支持使它們成為任何研發環境（半自動批量生產）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。

實驗室納米壓印試用分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。

納米壓印光刻設備-處理結果：

新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結構的AFM圖像

資料來源：EVG與SwissLitho

AG合作（歐盟項目SNM）

2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片

資料來源：EVG

3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列

由加拿大國家研究委 員會提供

4.L / S光柵具有優化的殘留層，厚度約為10 nm

資料來源：EVG

5.紫外線成型鏡片300 μm

資料來源：EVG

6.光子晶體用于LED的光提取

多晶硅的蜂窩織構化（mc-Si）

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形結構50 μm

資料來源：EVG

8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝

資料來源：EVG

9.光子帶隙傳感器光柵

資料來源：EVG（歐盟Saphely項目）

10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相

資料來源：EVG

UV納米壓印光刻系統

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統

■高精度對準臺

■自動楔形誤差補償機制

■電動和程序控制的曝光間隙

■支持***的UV-LED技術

■**小化系統占地面積和設施要求

EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA：自動化的全場納米壓印解決方案，適用于第3代基材

■體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度

■專有的SmartNIL®技術和多用途聚合物印章技術

■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作

■盒帶間自動處理以及半自動研發模式

■適用于所有市售壓印材料的開放平臺

EVG開拓了這種非常規光刻技術，擁有多年技術，掌握了NIL，并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。

EVG ® 620 NT特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG ® 620 NT附加功能：

鍵對準

紅外對準

SmartNIL

μ接觸印刷技術數據

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

SmartNIL ®：在100毫米范圍

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準：

軟NIL：≤±0.5 μm

SmartNIL ®：≤±3微米

自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部：SmartNIL ®：支持

納米壓印設備可用來進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。實驗室納米壓印試用

步進重復納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。海南納米壓印用途是什么

    首先準備一塊柔性薄膜作為彈性基底層，然后將巰基-烯預聚物旋涂在具有表面結構的母板上，彈性薄膜壓印在巰基-烯層上，與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環境中固化通過“點擊反應”形成交聯聚合物，不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后，彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起，獲得雙層結構的復合柔性模板。由于良好的材料特性，剛性巰基-烯結構層可以實現較高的分辨率。因此，利用該方法可以制備高 分辨的復合柔性模板，經過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結構復合軟壓印模板。相關研究成果發表于《納米科技與納米技術雜志》（JournalofNanoscienceandNanotechnology）。（來自網絡。海南納米壓印用途是什么

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