比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質,半導體,和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術在成本,復雜度,和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個角度入射,所以一定要分析反射光的偏振和強度,使得橢偏儀對超薄和復雜的薄膜堆有較強的測量能力。然而,偏振分析意味著需要昂貴的精密移動光學儀器。光譜反射儀測量的是垂直光,它忽略偏振效應(絕大多數薄膜都是旋轉對稱)。因為不涉及任何移動設備,光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的優先,而橢偏儀側重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間,兩種技術都可用。而且具有快速,簡便,成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。輪廓儀可用于藍寶石拋光工藝表面粗糙度分析(粗拋與精拋比較)。**輪廓儀技術原理
輪廓儀的培訓
一、 培訓承諾
系統建成后,我公司將為業主提供為期1天的**培訓和技術資詢;培訓地點可以在我公司,亦或在工程現場;
系統操作及管理人員的培訓人數為10人,由業主指定,我公司將確保相關人員正確使用該系統;
1.1. 培訓對象
系統操作及管理人員(培訓對象須具有專業技術的技術人員或實際值班操作人員);
其他業主指定的相關人員。
1.2. 培訓內容
系統操作使用說明書。
培訓課程的主要內容是系統的操作、系統的相關參數設定和修改和系統的維修與保養與簡單升級等,具體內容如下:
* 系統文檔解讀;
* 系統的技術特點、安裝維護和系統管理方式;
* 系統一般故障排除。
臺積電輪廓儀特點NanoX-8000隔振系統:集成氣浮隔振 + 大理石基石。
表面三維微觀形貌測量的意義
在生產中,表面三維微觀形貌對工程零件的許多技術性能的評家具有**直接的影響,而且表面三維評定參數由于能更***,更真實的反應零件表面的特征及衡量表面的質量而越來越受到重視,因此表面三維微觀形貌的測量就越顯重要。通過兌三維形貌的測量可以比較***的評定表面質量的優劣,進而確認加工方法的好壞以及設計要求的合理性,這樣就可以反過來通過知道加工,優化加工工藝以及加工出高質量的表面,確保零件使用功能的實現。
表面三位微觀形貌的此類昂方法非常豐富,通常可分為接觸時和非接觸時兩種,其中以非接觸式測量方法為主。
輪廓儀的物鏡知多少?
白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理,以三維非接觸時方法測量分析樣片表面形貌的關鍵參數和尺寸,典型結果包括:
表面形貌(粗糙度,平面度,平行度,臺階高度,錐角等)
幾何特征(關鍵孔徑尺寸,曲率半徑,特征區域的面積和集體,特征圖形的位置和數量等)
白光干涉系統基于無限遠顯微鏡系統,通過干涉物鏡產生干涉條紋,使基本的光學顯微鏡系統變為白光干涉儀。
因此物鏡是輪廓儀****的部件,
物鏡的選擇根據功能和檢測的精度提出需求,為了滿足各種精度的需求,需要提供各種物鏡,例如標配的10×, 還有2.5×,5×,20×,50×,100×,可選。
不同的鏡頭價格有很大的差別,因此需要量力根據需求選配對應的鏡頭哦。 NanoX-8000 的XY 平臺比較大移動速度:200mm/s 。
表面三維輪廓儀對精密加工的作用:
一、從根源保障物件成品的準確性:
通過光學表面三維輪廓儀的掃描檢測,得出物件的誤差和超差參數,**提高物件在生產加工時的精確度。杜絕因上游的微小誤差形成“蝴蝶效應”,造成下游生產加工的更大偏離,**終導致整個生產鏈更大的損失。
二、提高效率:
智能化檢測,全自動測量,檢測時只需將物件放置在載物臺,然后在檢定軟件上選擇相關參數,即可一鍵分析批量測量。擯棄傳統檢測方法耗時耗力,精確度低的缺點,**提高加工效率。
三、涵蓋面廣的2D、3D形貌參數分析:
表面三維輪廓儀可測量300余種2D、3D參數,無論加工的物件使用哪一種評定標準,都可以提供***的檢測結果作為評定依據,可輕松獲取被測物件精確的線粗糙度、面粗糙度、輪廓度等參數。
四、穩定性強,高重復性:
儀器運用高性能內部抗震設計,不受外部環境影響測量的準確性。超精密的Z向掃描模塊和測量軟件完美結合,保證高重復性,將測量誤差降低到亞納米級別。 由于光罩中電路結構尺寸極小,任何微小的黏附異物和下次均會導致制造的晶圓IC表面存在缺 陷。光刻機輪廓儀可以免稅嗎
包含了從納米到微米級別的輪廓、線粗糙度、面粗糙度等二維、三維參數,作為評定該物件是否合格的標準。**輪廓儀技術原理
輪廓儀的性能
測量模式 :
移相干涉(PSI),白光垂直掃描干涉(VSI),單色光垂直掃描干涉(CSI)
樣 品 臺 :
150mm/200mm/300mm 樣品臺(可選配)
XY 平移:±25mm/150mm/200mm/300mm,傾斜:±5°
可選手動/電動樣品臺
CCD 相機像素:
標配:1280×960
視場范圍:
560×750um(10×物鏡)
具體視場范圍取決于所配物鏡及 CCD 相機
光學系統:
同軸照明無限遠干涉成像系統
光 源:
高 效 LED
Z 方向聚焦 80mm 手動聚焦(可選電動聚焦)
Z 方向掃描范圍 精密 PZT 掃描(可選擇高精密機械掃描,拓展達 10mm )
縱向分辨率 <0.1nm
RMS 重復性* 0.005nm,1σ
臺階測量** 準確度 ≤0.75%;重復性 ≤0.1%,1σ
橫向分辨率 ≥0.35um(100 倍物鏡)
檢測速度 ≤ 35um/sec , 與所選的 CCD **輪廓儀技術原理
岱美儀器技術服務(上海)有限公司是一家磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】的公司,是一家集研發、設計、生產和銷售為一體的專業化公司。岱美儀器技術服務擁有一支經驗豐富、技術創新的專業研發團隊,以高度的專注和執著為客戶提供磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發。岱美儀器技術服務始終以本分踏實的精神和必勝的信念,影響并帶動團隊取得成功。岱美儀器技術服務始終關注儀器儀表行業。滿足市場需求,提高產品價值,是我們前行的力量。