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膜厚儀膜厚儀技術服務

來源: 發布時間:2020-10-19

濾光片整平光譜響應。

ND#0.5 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#0.5 衰減整平濾波器.

ND#1 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#1 衰減整平濾波器.

ND#2 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#2 衰減整平濾波器.

420nm 高通濾波器.420nm 高通濾波器於濾波器架.

515nm 高通濾波器.515nm 高通濾波器於濾波器架.

520nm 高通濾波器 +ND1.520nm 高通濾波器 + ND#1 十倍衰減整平濾波器.

520nm 高通濾波器 + ND#2520nm 高通濾波器 + ND#2 一百倍衰減整平濾波器.

550nm 高通濾波器550nm 高通濾波器於濾波器架. F40-EXR范圍:20nm-120μm;波長:400-1700nm。膜厚儀膜厚儀技術服務

FSM 8018 VITE測試系列設備

VITE技術介紹:

VITE是傅里葉頻域技術,利用近紅外光源的相位剪切技術(Phase shear technology)

設備介紹

適用于所有可讓近紅外線通過的材料:硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石  英、聚合物…………

應用:

   襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)

   平整度

   厚度變化 (TTV)

   溝槽深度

   過孔尺寸、深度、側壁角度

   粗糙度

薄膜厚度

不同半導體材料的厚度

   環氧樹脂厚度

   襯底翹曲度

   晶圓凸點高度(bump height)

MEMS 薄膜測量

TSV 深度、側壁角度...


高精密儀器膜厚儀特點F10-AR在用戶定義的任何波長范圍內都能進行比較低、比較高和平均反射測試。

厚度測量產品:我們的膜厚測量產品可適用于各種應用。我們大部分的產品皆備有庫存以便快速交貨。請瀏覽本公司網頁產品資訊或聯系我們的應用工程師針對您的厚度測量需求提供立即協助。


單點厚度測量:

一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺式測量系統。 測量 1nm 到 13mm 的單層薄膜或多層薄膜堆。

大多數產品都有庫存而且可立即出貨。

F20全世界銷量**hao的薄膜測量系統。有各種不同附件和波長覆蓋范圍。


微米(顯微)級別光斑尺寸厚度測量當測量斑點只有1微米(μm)時,需要用您自己的顯微鏡或者用我們提供的整個系統。

厚度標準:

所有 Filmetrics 厚度標準都是得到驗證可追溯的 NIST 標準。

S-Custom-NIST:在客戶提供的樣品上定制可追溯的 NIST 厚度校準。 

TS-Focus-SiO2-4-3100SiO2-on-Si :厚度標準,外加調焦區和單晶硅基準,厚度大約 3100A,4" 晶圓。

TS-Focus-SiO2-4-10000SiO2-on-Si :厚度標準,外加調焦區和單晶硅基準,厚度大約 10000A,4" 晶圓。

TS-Hardcoat-4μm:丙烯酸塑料硬涂層厚度標準,厚度大約 4um,直徑 2"。

TS-Hardcoat-Trans:背面透明的硬涂層,可用于透射測量。

TS-Parylene-4um:丙烯酸塑料上的聚對二甲苯厚度標準,厚度大約 4um ,直徑2"。

TS-Parylene-8um:硅基上的聚對二甲苯厚度標準,厚度大約 8um,23mm x 23mm。

TS-SiO2-4-7200:硅基上的二氧化硅厚度標準,厚度大約 7200A,4" 晶圓。

TS-SiO2-4-7200-NIST:可追溯的 NIST SiO2-4-7200 厚度標準。

TS-SiO2-6-Multi:多厚度硅基上的二氧化硅標準: 125埃米,250埃米,500埃米,1000埃米,5000埃米,和 10000埃米 (+/-10%誤差),6英寸晶圓。TS-SS3-SiO2-8000:專為SS-3樣品平臺設計之二氧化硅厚度標準片,厚度大約為 8000A。 可選粗糙度: 20 — 1000? (RMS)。

FSM 360 拉曼光譜系統

FSM紫外光和可見光拉曼系統, 型號360

FSM拉曼的應用

l  局部應力;

l  局部化學成分

l  局部損傷

紫外光可測試的深度

***的薄膜(SOI 或 Si-SiGe)或者厚樣的近表面局部應力



可見光可測試的深度

良好的厚樣以及多層樣品的局部應力

系統測試應力的精度小于15mpa (0.03cm-1)

全自動的200mm和300mm硅片檢查

自動檢驗和聚焦的能力。


以上的信息比較有限,如果您有更加詳細的技術問題,請聯系我們的技術人員為您解答。或者訪問我們的官網了解更多信息。 F3-sX 系列測厚范圍:10μm - 3mm;波長:960-1580nm。晶圓膜厚儀價格

厚度變化 (TTV) ;溝槽深度;過孔尺寸、深度、側壁角度。膜厚儀膜厚儀技術服務

F54包含的內容:

集成光譜儀/光源裝置

MA-Cmount 安裝轉接器 

顯微鏡轉接器光纖連接線BK7 

參考材料TS-Focus-SiO2-4-10000 

厚度標準 聚焦/厚度標準4", 6" and 200mm 

參考晶圓真空泵備用燈

型號厚度范圍*波長范圍

F54:20nm-40μm 380-850nm

F54-UV:4nm-30μm 190-1100nm

F54-NIR:40nm-100μm 950-1700nm

F54-EXR:20nm-100μm 380-1700nm

F54-UVX:4nm-100μm190-1700nm

*取決于材料與顯微鏡

額外的好處:每臺系統內建超過130種材料庫, 隨著不同應用更超過數百種應用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯網)硬件升級計劃 膜厚儀膜厚儀技術服務

岱美儀器技術服務(上海)有限公司發展規模團隊不斷壯大,現有一支專業技術團隊,各種專業設備齊全。在岱美儀器技術服務近多年發展歷史,公司旗下現有品牌岱美儀器技術服務等。公司以用心服務為重點價值,希望通過我們的專業水平和不懈努力,將磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】等業務進行到底。岱美儀器技術服務始終以質量為發展,把顧客的滿意作為公司發展的動力,致力于為顧客帶來***的磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發。

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