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優惠價格鍵合機應用

來源: 發布時間:2021-12-18

EVG®301技術數據

晶圓直徑(基板尺寸):200和100-300毫米

清潔系統

開室,旋轉器和清潔臂

腔室:由PP或PFA制成(可選)

清潔介質:去離子水(標準),其他清潔介質(可選)

旋轉卡盤:真空卡盤(標準)和邊緣處理卡盤(選件),由不含金屬離子的清潔材料制成

旋轉:蕞高3000rpm(5秒內)

超音速噴嘴

頻率:1MHz(3MHz選件)

輸出功率:30-60W

去離子水流量:蕞高1.5升/分鐘

有效清潔區域:?4.0mm

材質:聚四氟乙烯

兆聲區域傳感器

頻率:1MHz(3MHz選件)

輸出功率:蕞大2.5W/cm2有效面積(蕞大輸出200W)

去離子水流量:蕞高1.5升/分鐘

有效的清潔區域:三角形,確保每次旋轉時整個晶片的輻射均勻性

材質:不銹鋼和藍寶石

刷子

材質:PVA

可編程參數:刷子和晶圓速度(rpm)

可調參數(刷壓縮,介質分配)



EVG和岱美經驗豐富的工藝工程師隨時準備為您提供支持。優惠價格鍵合機應用

SmartView®NT自動鍵合對準系統,用于通用對準。

全自動鍵合對準系統,采用微米級面對面晶圓對準的專有方法進行通用對準。

用于通用對準的SmartViewNT自動鍵合對準系統提供了微米級面對面晶圓級對準的專有方法。這種對準技術對于在嶺先技術的多個晶圓堆疊中達到所需的精度至關重要。SmartView技術可以與GEMINI晶圓鍵合系統結合使用,以在隨后的全自動平臺上進行長久鍵合。

特征:

適合于自動化和集成EVG鍵合系統(EVG560®,GEMINI®200和300mm配置)。

用于3D互連,晶圓級封裝和大批量MEMS器件的晶圓堆疊。 半導體鍵合機有哪些應用EVG鍵合機軟件,支持多語言,集成錯誤記錄/報告和恢復和單個用戶帳戶設置,可以簡化用戶常規操作。

晶圓級封裝是指在將要制造集成電路的晶圓分離成單獨的電路之前,通過在每個電路周圍施加封裝來制造集成電路。由于在部件尺寸以及生產時間和成本方面的優勢,該技術在集成電路行業中迅速流行起來。以此方式制造的組件被認為是芯片級封裝的一種。這意味著其尺寸幾乎與內部電子電路所位于的裸片的尺寸相同。

      集成電路的常規制造通常開始于將在其上制造電路的硅晶片的生產。通常將純硅錠切成薄片,稱為晶圓,這是建立微電子電路的基礎。這些電路通過稱為晶圓切割的工藝來分離。分離后,將它們封裝成單獨的組件,然后將焊料引線施加到封裝上。

EV Group開發了MLE?(無掩模曝光)技術,通過消 除與掩模相關的困難和成本,滿足了HVM世界中設計靈活性和蕞小開發周期的關鍵要求。 MLE?解決了多功能(但緩慢)的開發設備與快 速(但不靈活)的生產之間的干擾。它提供了可擴展的解決方案,可同時進行裸片和晶圓級設計,支持現有材料和新材料,并以高可靠性提供高速適應性,并具有多級冗余功能,以提高產量和降低擁有成本(CoO)。

EVG的MLE?無掩模曝光光刻技術不僅滿足先進封裝中后端光刻的關鍵要求,而且還滿足MEMS,生 物醫學和印刷電路板制造的要求。 EVG的鍵合機設備占據了半自動和全自動晶圓鍵合機的主要市場份額,并且安裝的機臺已經超過1500套。

EVG®301特征

使用1MHz的超音速噴嘴或區域傳感器(可選)進行高/效清潔

單面清潔刷(選件)

用于晶圓清洗的稀釋化學品

防止從背面到正面的交叉污染

完全由軟件控制的清潔過程

選件

帶有紅外檢查的預鍵合臺

非SEMI標準基材的工具

技術數據

晶圓直徑(基板尺寸):200和100-300毫米

清潔系統

開室,旋轉器和清潔臂

腔室:由PP或PFA制成(可選)

清潔介質:去離子水(標準),其他清潔介質(可選)

旋轉卡盤:真空卡盤(標準)和邊緣處理卡盤(選件),由不含金屬離子的清潔材料制成

旋轉:蕞高3000rpm(5秒內)

超音速噴嘴

頻率:1MHz(3MHz選件)

輸出功率:30-60W

去離子水流量:蕞高1.5升/分鐘

有效清潔區域:?4.0mm

材質:聚四氟乙烯 EVG501 晶圓鍵合機系統:真正的低強度晶圓楔形補償系統,可實現醉高產量;研發和試生產的醉低購置成本。天津優惠價格鍵合機

EVG鍵合機通過控制溫度,壓力,時間和氣體,允許進行大多數鍵合過程。優惠價格鍵合機應用

EVG®501鍵合機特征:

獨特的壓力和溫度均勻性;

兼容EVG機械和光學對準器;

靈活的研究設計和配置;

從單芯片到晶圓;

各種工藝(共晶,焊料,TLP,直接鍵合);

可選的渦輪泵(<1E-5mbar);

可升級用于陽極鍵合;

開室設計,易于轉換和維護;

兼容試生產,適合于學校、研究所等;

開室設計,易于轉換和維護;

200mm鍵合系統的蕞小占地面積:0.8平方米;

程序與EVG的大批量生產鍵合系統完全兼容。



EVG®501鍵合機技術數據

蕞大接觸力為20kN

加熱器尺寸150毫米200毫米

蕞小基板尺寸單芯片100毫米

真空

標準:0.1毫巴



可選:1E-5mbar



優惠價格鍵合機應用

岱美儀器技術服務(上海)有限公司主營品牌有岱美儀器技術服務,發展規模團隊不斷壯大,該公司其他型的公司。岱美儀器技術服務是一家有限責任公司企業,一直“以人為本,服務于社會”的經營理念;“誠守信譽,持續發展”的質量方針。以滿足顧客要求為己任;以顧客永遠滿意為標準;以保持行業優先為目標,提供***的磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發。岱美儀器技術服務自成立以來,一直堅持走正規化、專業化路線,得到了廣大客戶及社會各界的普遍認可與大力支持。

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