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EVG7200LA納米壓印現場服務

來源: 發布時間:2019-12-21

EVG610特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG610附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


EVG610技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL:比較大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外線LED光源

自動分離:不支持

工作印章制作:外部


分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。EVG7200LA納米壓印現場服務

EVG ® 720自動SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統

自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米,設有EVG's專有SmartNIL ®技術


EVG720系統利用EVG的創新SmartNIL技術和材料專業知識,能夠大規模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結構,具有****的吞吐量,非常適合批量生產下一代微流控和光子器件,例如衍射光學元件( DOEs)。

*分辨率取決于過程和模板


如果需要詳細的信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問官網,獲得更多信息。 陜西納米壓印競爭力怎么樣EVG ? 770是分步重復納米壓印光刻系統,使用分步重復納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作。

      **的衍射波導設計商和制造商WaveOptics***宣布與EV Group(EVG)進行合作,EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的**供應商,以帶來高性能增強現實( AR)波導以當今業界*低的成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關鍵光學組件。

      WaveOptics首席執行官David Hayes評論:“這一合作伙伴關系標志著增強現實行業的轉折點,是大規模生產高質量增強現實解決方案的關鍵步驟,這是迄今為止尚無法實現的能力。” EVG的專業知識與我們可擴展的通用技術的結合將使到明年年底,AR終端用戶產品的市場價格將低于600美元。“這項合作是釋放AR可穿戴設備發展的關鍵;我們共同處于有利位置,可以在AR中引入大眾市場創新,以比以往更低的成本開辟了可擴展性的新途徑。”

曲面基底上的納米結構在許多領域都有著重要應用,例如仿生學、柔性電子學和光學器件等。傳統的納米壓印技術通常采用剛性模板,可以實現亞10nm的分辨率,但是模板不能彎折,無法在曲面基底上壓印制備納米結構。而采用彈性模板的軟壓印技術可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸,實現結構在非平面基底上的壓印復制,但是由于彈性模板的楊氏模量較低,所以壓印結構的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發展現狀,結合傳統的納米壓印技術和軟壓印技術,中國科學院光電技術研究所團隊發展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復合軟壓印模板的制備方法,該模板包含剛性結構層和彈性基底層。(來自網絡,侵權請聯系我們進行刪除,謝謝!) EVG ? 520 HE是熱壓印系統。

UV-NIL / SmartNIL 納米壓印系統

EV Group為基于紫外線的納米壓印光刻(UV-NIL)提供完整的產品線,包括不同的單步壓印系統,大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統。除了柔軟的UV-NIL,EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高 效,強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,高度均勻的圖案層和**少的殘留層,并具有易于調整的晶圓尺寸和產量。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期承諾,即納米壓印是一種用于大規模生產微米和納米級結構的高性能,低成本和具有批量生產能力的技術。


這個系列的型號包括:EVG®610;EVG®620NT;EVG®6200NT;EVG®720;EVG®7200;EVG®7200LA;HERCULES®NIL;EVG®770;IQAligner®。 EVG提供不同的***積壓印系統,大面積壓印機,微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。吉林納米壓印要多少錢

SmartNIL技術可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。EVG7200LA納米壓印現場服務

       EVG公司技術開發和IP總監Markus Wimplinger補充說:“我們開發新技術和工藝以應對*復雜的挑戰,幫助我們的客戶成功地將其新產品創意商業化。技術,我們創建了我們的NILPhotonics能力中心。“在具有保護客戶IP的強大政策的框架內,我們為客戶提供了從可行性到生產階段的產品開發和商業化支持。這正是我們***與AR領域的**者WaveOptics合作所要做的,以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案。”

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內的協作開發工作旨在支持WaveOptics的承諾,即在工業,企業和消費者等所有主要市場領域釋放AR在大眾市場的應用,并遵循公司模塊計劃的推出。 EVG7200LA納米壓印現場服務

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