Ziptronix Inc. 與 EV Group(簡稱“EVG ”)***宣布已成功地在客戶提供的300毫米DRAM晶圓實現亞微米鍵合后對準精度。方法是在 EVG Gemini FB 產品融合鍵合機和 SmartView NT 鍵合對準機上采用 Ziptronix 的DBI混合鍵合技術。這種方法可用于制造各種應用的微間距3D集成電路,包括堆棧存儲器、上等圖像傳感器和堆棧式系統芯片 (SoC)。
Ziptronix 的首席技術官兼工程副總裁 Paul Enquist 表示:“DBI 混合鍵合技術的性能不受連接間距的限制,只需要可進行測量的適當的對準和布局工具,而這是之前一直未能解決的難題。EVG 的融合鍵合設備經過優化后實現了一致的亞微米鍵合后對準精度,此對準精度上的改進為我們的技術的大批量生產 (HVM) 鋪平了道路。” EVG的GEMINI系列是頂及大批量生產系統,同時結合了自動光學對準和鍵合操作功能。內蒙古鍵合機競爭力怎么樣
用晶圓級封裝制造的組件被***用于手機等消費電子產品中。這主要是由于市場對更小,更輕的電子設備的需求,這些電子設備可以以越來越復雜的方式使用。例如,除了簡單的通話外,許多手機還具有多種功能,例如拍照或錄制視頻。晶圓級封裝也已用于多種其他應用中。例如,它們用于汽車輪胎壓力監測系統,可植入醫療設備,***數據傳輸系統等。
晶圓級封裝還可以減小封裝尺寸,從而節省材料并進一步降低生產成本。然而,更重要的是,減小的封裝尺寸允許組件用于更***的高級產品中。晶圓級封裝的主要市場驅動因素之一是需要更小的組件尺寸,尤其是減小封裝高度。 中芯國際鍵合機一級代理自動鍵合系統EVG?540,擁有300 mm單腔鍵合室和多達4個自動處理鍵合卡盤。
鍵合卡盤承載來自對準器對準的晶圓堆疊,以執行隨后的鍵合過程。可以使用適合每個通用鍵合室的**卡盤來處理各種尺寸的晶圓和鍵合應用。 EVG?501/EVG?510/EVG?520IS是用于研發的鍵合機。 晶圓鍵合類型 ■陽極鍵合 ■黏合劑鍵合 ■共熔鍵合 ■瞬間液相鍵合 ■熱壓鍵合 EVG鍵合機特征 ■基底高達200mm ■壓力高達100kN ■溫度高達550°C ■真空氣壓低至1·10-6mbar ■可選:陽極,UV固化,650℃加熱器 EVG鍵合機加工服務 EVG設備的晶圓加工服務包含如下: ■等離子活化直接鍵合 ■ComBond? -硅和化合物半導體的導電鍵合 ■高真空對準鍵合 ■臨時鍵合和熱、機械或者激光剖離 ■混合鍵合 ■黏合劑鍵合 ■集體D2W鍵合
BONDSCALE?自動化生產熔融系統
啟用3D集成以獲得更多收益
特色
技術數據
EVGBONDSCALE?自動化生產熔融系統旨在滿足廣fan的熔融/分子晶圓鍵合應用,包括工程化的基板制造和使用層轉移處理的3D集成方法,例如單片3D(M3D)。借助BONDSCALE,EVG將晶片鍵合應用于前端半導體處理中,并幫助解決內部設備和系統路線圖(IRDS)中確定的“超摩爾”邏輯器件擴展的長期挑戰。結合增強的邊緣對準技術,與現有的熔融鍵合平臺相比,BONDSCALE大da提高了晶圓鍵合生產率,并降低了擁有成本(CoO)。 EVG的鍵合機設備占據了半自動和全自動晶圓鍵合機的主要市場份額,并且安裝的機臺已經超過1500套。
半導體器件的垂直堆疊已經成為使器件密度和性能不斷提高的日益可行的方法。晶圓間鍵合是實現3D堆疊設備的重要工藝步驟。然而,需要晶片之間的緊密對準和覆蓋精度以在鍵合晶片上的互連器件之間實現良好的電接觸,并*小化鍵合界面處的互連面積,從而可以在晶片上騰出更多空間用于生產設備。支持組件路線圖所需的間距不斷減小,這推動了每一代新產品的更嚴格的晶圓間鍵合規范。
imec 3D系統集成兼項目總監兼Eric Beyne表示:“在imec,我們相信3D技術的力量將為半導體行業創造新的機遇和可能性,并且我們將投入大量精力來改善它?!疤貏e關注的領域是晶圓對晶圓的鍵合,在這一方面,我們通過與EV Group等行業合作伙伴的合作取得了優異的成績。去年,我們成功地縮短了芯片連接之間的距離或間距,將晶圓間的混合鍵合厚度減小到1.4微米,是目前業界標準間距的四倍。今年,我們正在努力將間距至少降低一半?!?EVG和岱美經驗豐富的工藝工程師隨時準備為您提供支持。河北絕緣體上硅鍵合機
EVG鍵合機通過在高真空,精確控制的真空、溫度或高壓條件下鍵合,可以滿足各種苛刻的應用。內蒙古鍵合機競爭力怎么樣
EVG?850DB自動解鍵合機系統 全自動解鍵合,清潔和卸載薄晶圓 特色 技術數據 在全自動解鍵合機中,經過處理的臨時鍵合晶圓疊層被分離和清洗,而易碎的設備晶圓始終在整個工具中得到支撐。支持的剝離方法包括UV激光,熱剝離和機械剝離。使用所有解鍵合方法,都可以通過薄膜框架安裝或薄晶圓處理器來支撐設備晶圓。 特征 在有形和無形的情況下,都能可靠地處理變薄的,彎曲和翹曲的晶片 自動清洗解鍵合晶圓 程序控制系統 實時監控和記錄所有相關過程參數 自動化工具中完全集成的SECS/GEM界面 適用于不同基板尺寸的橋接工具功能 模塊化的工具布局→根據特定工藝優化了產量 技術數據 晶圓直徑(基板尺寸) 高達300毫米 高達12英寸的薄膜面積 組態 解鍵合模塊 清潔模塊 薄膜裱框機 選件 ID閱讀 多種輸出格式 高形貌的晶圓處理 翹曲的晶圓處理內蒙古鍵合機競爭力怎么樣
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