碳化硅反射鏡制備工藝：1、反應燒結法。反應燒結是一種較為常見的反射鏡制備工藝，這種工藝采用具有反應活性的液態硅浸滲含碳的反射鏡預制體，硅與碳反應生成的新碳化硅原位地結合預制體中原有的碳化硅顆粒，并填充預制體中剩余的孔隙，然后得到近乎完全致密的反射鏡毛坯。2、化學氣相沉積法。化學氣相沉積法是在溫度為1275℃～1350℃的反應容器內，通入一種氣體或幾種氣體的混合氣，在石墨或其它物質的基片上得到碳化硅的沉積層。3、熱壓(或熱等靜壓)法。熱壓(或熱等靜壓)燒結的主要工藝步驟：把微米級的碳化硅粉和助燒劑以及阻止晶粒過分長大的添加劑混合后預壓成預制體，然后將這種預制體用合適的封裝材料封裝后放入壓力腔中，在合適的溫度-壓力-時間制度下進行燒結。超帶寬電介質膜反射鏡即使是在紫外和紅外譜區，也比一般金屬膜反射鏡要高。北京半反射鏡

碳化硅反射鏡的燒結工藝：SiC陶瓷材料的制備工藝方式主要有：熱壓燒結工藝、反應燒結工藝、常壓燒結工藝和化學氣相沉積工藝（CVD）。其中熱壓燒結工藝由于工藝過程的限制，不適合制備形狀復雜的反射鏡鏡坯。常壓燒結工藝燒結過程鏡坯的收縮率達到10%~15%，這種工藝對于制備精密尺寸的近凈尺寸成型不利。CVD技術制備SiC質反射鏡，是將含有硅源（SiCl４）和碳源（CXHY）的氣體共同導入反應爐，合成SiC后沉積在基板上。采用該工藝制備的鏡體質量較好，但成本也較高，只有在特殊的情況下應用該技術。反應燒結工藝可以制備大尺寸、形狀復雜的SiC反射鏡鏡坯，并且反應燒結的制備溫度相對較低、燒結時間周期短、鏡坯制造成本低、燒結完成的結構致密，機械綜合性能、熱特性較優，符合超大口徑反射鏡的應用要求。凹球面反射鏡訂做費用采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高。

平凹柱面反射鏡，反射面是圓柱面，平行入射光線經柱面反射可以匯聚到一條線，具有正的焦距。平凹柱面反射鏡的焦距為圓柱面曲率半徑的一半。適合用于光線聚焦應用。晶亮光電提供不鍍膜、鍍反射膜的柱面反射鏡，反射膜選項包括普通保護性鋁膜、保護性紫外反射鋁膜、保護性銀膜、保護性金膜。橢圓反射鏡的反射面是一個平面，外形輪廓為橢圓形，四十六度傾斜放置在光路中時通光形狀為圓形。晶亮光電提供不鍍膜、鍍反射膜的橢圓反射鏡，反射膜選項包括普通保護性鋁膜、保護性銀膜、保護性金膜及介質高反膜。熔融石英適用于紫外應用。

廣東光文光電科技有限公司小編介紹，空間光學載荷光學反射鏡組件離子束加工時產生的能量傳輸及累積效應對組件膠粘層的物理性能產生的不利影響，文章根據離子源的能量分布特點，建立了離子束加工過程中的動態熱傳輸模型。結合模型對駐留時間、束流分布參數、離子源功率產生的熱效應進行了靜態和動態分析。然后，在某直徑1000mm非球面ULE玻璃材料反射鏡組件的加工中進行試驗，實測加工中的至高溫度為47.19℃，與理論值基本一致，滿足了膠層對溫度閾值70℃的需求。激光器技術和基礎光學中較重要的反射鏡為介質反射鏡。

將離軸拋物面作反射鏡表面不僅能使光路方向偏轉，同時還可以實現各種光束收集、光束準直和光束聚焦，其離軸設計可以使焦點從光路其他部分中分離出來，被普遍應用于天體觀測光學裝置、光譜檢測、天文望遠系統、瞄準儀、擴束鏡、紅外系統、聚光太陽能系統，投影系統以及發射/探測設備等領域。與透鏡相比，使用離軸拋物面反射鏡不會產生球差、色差，且不會引入相位延遲和吸收損耗，非常適用于適合飛秒激光、紅外、太赫茲應用。離軸拋物面反射鏡底部有三個呈三角分布的螺紋安裝孔和定位孔，可通過專門設計的離軸拋物面反射鏡轉接件安裝至其他光學元件安裝架中。用毛刷柔軟的吸塵器吸拭。北京光學反射鏡廠家

實際使用的過程中對紅外、近紅外的光線反射率很高。北京半反射鏡

家用反射鏡的涂層通常是位于內側，外面是玻璃表面，很容易清洗。其它應用中，光通常直接入射到涂層上，而不需要射到襯底上。激光器技術和基礎光學中，存在更先進的金屬反射鏡。這些反射鏡的表面通常還有附加的涂層是為了提高反射率同時保護金屬涂層避免被氧化?？梢圆捎枚喾N金屬做反射鏡涂層，例如，金，銀，銅和鎳鉻合金。激光器技術和基礎光學中較重要的反射鏡為介質反射鏡。這種反射鏡包含多層薄介質涂層。它是利用不同涂層截面的反射效應結合在一起。常用的一種類型為布拉格反射鏡（四分之一波長反射鏡），這是較簡單的在某一波長（布拉格波長）處能得到較高反射率的一種反射鏡。北京半反射鏡