【真空鍍膜電阻加熱蒸發法】： 電阻加熱蒸發法就是采用鎢、鉬等高熔點金屬，做成適當形狀的蒸發源，其上裝入待蒸發材料，讓電流通過，對蒸發材料進行直接加熱蒸發，或者把待蒸發材料放入坩鍋中進行間接加熱蒸發。利用電阻加熱器加熱蒸發的鍍膜設備構造簡單、造價便宜、使用可靠，可用于熔點不太高的材料的蒸發鍍膜，尤其適用于對膜層質量要求不太高的大批量的生產中。目前在鍍鋁制品的生產中仍然大量使用著電阻加熱蒸發的工藝。電阻加熱方式的缺點是：加熱所能達到的Zui高溫度有限，加熱器的壽命也較短。近年來，為了提高加熱器的壽命，國內外已采用壽命較長的氮化硼合成的導電陶瓷材料作為加熱器。 真空鍍膜設備故障解決方法？北京紅外真空鍍膜設備

【濺射的四要素】：①靶材物質，②電磁場，③底物，④一整套完整配備的鍍膜設備 【濺射收益】：1)離子每一次撞擊靶材時，靶材所釋放出的靶材原子；2)影響濺射收益的因素： ①等離子體中離子動能, ②入射離子的入射角度; 3)Zui大濺射收益的決定因素：①入射角度在45°&50°左右,②取決于靶材物質; 4)入射角度的影響因素 ①由電場決定,②靶材表面于入射源的相對角度。 【濺射率】： 定義：每單位時間內靶材物質所釋放出的原子個數。 濺射率的影響因素：①離子動能（取決于電源電壓和氣體壓力）②等離子密度（取決于氣體壓力和電流）。統計學公式：Rs(統計學)=d/t。 注：濺射原子溢出角度大部分在0~10度之間，因此在腔室內所有區域都可能被鍍上一層膜，久之會產生污染。所以真空濺射腔室內必須進行定期清潔。 安徽真空鍍膜設備對身體有害嗎廣東真空鍍膜設備廠家。

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜臟】： 顧名思義，膜層有臟。一般的膜臟發生在膜內或膜外。臟也可以包括：灰塵點、白霧、油斑、指紋印、口水點等。 改善對策：檢討過程，杜絕臟污染。 1. 送交洗凈或擦拭的鏡片不要有過多的不良附著物。 2. 加強鍍前鏡片的洗凈率或擦凈率。 3. 改善上傘后待鍍膜鏡片的擺放環境，防止污染。 4. 養成上傘作業員的良好習慣，防止鏡片污染。 5. 加快真空室護板更換周期。 6. 充氣管道清潔，防止氣體充入時污染。 7. 初始排期防渦流（湍流），初始充氣防過充。 8. 鏡片擺放環境和搬運過程中避免油污、水汽。 9. 工作環境改造成潔凈車間。 10. 將鍍膜機作業面板和主機隔開，減少主機產生的有害物質污染鏡片。

【真空鍍膜真空蒸發鍍膜原理】: 真空蒸發法的原理是：在真空條件下，用蒸發源加熱蒸發材料，使之蒸發或升華進入氣相，氣相粒子流直接射向基片上沉積或結晶形成固態薄膜；由于環境是真空，因此，無論是金屬還是非金屬，在這種情況下蒸發要比常壓下容易得多。真空蒸發鍍膜是發展較早的鍍膜技術，其特點是：設備相對簡單，沉積速率快，膜層純度高，制膜材料及被鍍件材料范圍很廣，鍍膜過程可以實現連續化，應用相當guang泛。按蒸發源的不同，主要分為：電阻加熱蒸發、電子束蒸發、電弧蒸發和激光蒸發等。 真空鍍膜設備常見故障及解決方法。

【近些年來出現的新的鍍膜方法】： 除蒸發法和濺射法外，人們又綜合了這兩種方法的優缺點，取長補短，發展出一些新的方法，如：等離子體束濺射等。這種嶄新的技術結合了蒸發鍍的高效和濺射鍍的高性能特點，特別在多元合金以及磁性薄膜的制備方面，具有其它手段無可比擬的優點。高效率等離子體濺射(High Target Utilization Plasma Sputtering(HiTUS))實際上是由利用射頻功率產生的等離子體聚束線圈、偏壓電源組成的一個濺射鍍膜系統。這種離子體源裝置在真空室的側面。如圖1所示。圖2為實際的鍍膜機照片。該等離子體束在電磁場的作用下被引導到靶上，在靶的表面形成高密度等離子體。同時靶連接有DC/RF偏壓電源，從而實現高效可控的等離子體濺射。等離子體發生裝置與真空室的分離設計是實現濺射工藝參數寬范圍可控的關鍵，而這種廣闊的可控性使得特定的應用能確定工藝參數Zui優化。 與通常的磁控濺射相比，由于磁控靶磁場的存在而在靶材表面形成刻蝕環不同，HiTUS系統由于取消了靶材背面的磁鐵，從而能對靶的材料實現全mian積均勻。 電子束蒸發真空鍍膜設備是什么？湖南真空鍍膜設備供應商

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【真空鍍膜設備之真空的測量】： 真空計： A、熱偶規、皮拉尼規、對流規： 用來測粗真空的真空計，從大氣到1E&5Torr，精度一般在10%，皮拉尼規精度高的可到5%, 反應較慢，受溫度變化的影響較大。 B、離子規： 用來測高真空或超高真空的真空計，熱燈絲的離子規測量范圍一般從1E&4到1E&9Torr，特殊的有些甚至可以低到&10甚至&11Torr，精度在10%~20%，燈絲在工作時遇到大氣會燒毀；冷陰極的離子規一般可以測到1E&11Torr，精度在20%~50%，特別是超高真空下測量精度很差，需要高壓電源，探頭內有磁鐵，使用時不能用于某些無磁的場合。 C、電容式壓力計： 探頭Zui大壓力從25000Torr到0.1Torr，動態范圍大約104范圍，比如，1Torr量程的Zui低是5E&4Torr，通常精度在讀數的0.25%，可以高到0.15%。 D、寬量程真空計： 皮拉尼規和熱燈絲離子規的組合，兩個規可以自動切換，在低真空時切換到皮拉尼規，高真空時可切換到離子規。北京紅外真空鍍膜設備

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