【光譜分光不良的補救（補色）之其他情況】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經測試分光不良，此類不良主要按六節所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發現錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續努力補救。后續方法正確，補救成功率比較高。 中斷的原因形式之其他情況： 對于用錯程序，錯誤操作（預熔未關閉擋板等）人為中斷需要補救的；以及反光膜、濾光膜鍍后需要補救的情況處理方案： 模擬：將實測分光數據輸入計算機膜系設計程序的優化目標值。通過計算機模擬（一般是Zui后一層的膜厚確認），找到與實現測試值結果相應的膜系數據。 優化：根據模擬得到的膜系數據，輸入產品要求的優化目標值，通過加層、優化后續膜層的方法，重新優化設計一個補救膜系。 試鍍：確認、完善補救膜系效果 補救鍍：完成補救工作 真空鍍膜設備公司排名。北京uv真空鍍膜設備

【真空鍍膜設備的分類】： 這個問題如果在十年之前，其實是很容易回答的，就是兩個大類，物理沉積設備和化學沉積設備。現在這樣回答也是沒錯的，但現在再這樣回答就沒辦法把事情說清楚了，所以從應用領域上可以分成以下幾類： 傳統光學器件（鏡片，濾光片）所用的鍍膜設備：單腔體或多腔體蒸發式鍍膜設備，濺射式鍍膜設備。 新材料領域的柔性設備：卷對卷柔性鍍膜設備。 光通訊行業：離子束濺射鍍膜設備。 半導體及相似工藝：化學氣相沉積設備。 功能膜：多弧離子鍍設備，濺射設備，蒸發設備 玻璃工藝：濺射式連續線 其余的就得歸到“工藝定制設備”這個范圍里面了，例如車燈鍍膜設備，太陽能的共蒸發設備，光纖鍍膜設備，太陽能管設備等等 山西高真空鍍膜設備真空鍍膜設備升級改造。

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之單片膜色不均勻】： 原因：主要是由于基片凹凸嚴重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發源構成的蒸發角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈（碟片）邊緣部遮擋、鏡圈（碟片）臟在蒸鍍時污染鏡片等也會造成膜色差異問題。 改善對策：改善鏡片邊緣的蒸發角 1. 條件許可，用行星夾具 2. 選用傘片平坦（R大）的機臺 3. 根據傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。 4. 如果有可能，把蒸發源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。 5. 改善鏡圈（碟片），防止遮擋。 6. 注意旋轉傘架的相應部位對邊緣鏡片的部分遮擋 7. 清潔鏡圈（碟片） 8. 改善膜料蒸發狀況。

【真空鍍膜設備之低溫泵】： 低溫泵：低溫泵分為注入式液氦低溫泵和閉路循環氣氦制冷機低溫泵兩種。主要用于高真空或超高真空，屬于干泵，工作方式為氣體捕集。極限真空&6~&9Torr。 用低溫介質將抽氣面冷卻到20K 以下，抽氣面就能大量冷凝沸點溫度比該抽氣面溫度高的氣體，產生很大的抽氣作用。這種用低溫表面將氣體冷凝而達到抽氣目的的泵叫做低溫泵，或稱冷凝泵。低溫泵可以獲得抽氣速率Zui大、極限壓力Zui低的清潔真空，guang泛應用于半導體和集成電路的研究和生產，以及分子束研究、真空鍍膜設備、真空表面分析儀器、離子注入機和空間模擬裝置等方面。 真空鍍膜設備真空四個階段。

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜臟】： 顧名思義，膜層有臟。一般的膜臟發生在膜內或膜外。臟也可以包括：灰塵點、白霧、油斑、指紋印、口水點等。 改善對策：檢討過程，杜絕臟污染。 1. 送交洗凈或擦拭的鏡片不要有過多的不良附著物。 2. 加強鍍前鏡片的洗凈率或擦凈率。 3. 改善上傘后待鍍膜鏡片的擺放環境，防止污染。 4. 養成上傘作業員的良好習慣，防止鏡片污染。 5. 加快真空室護板更換周期。 6. 充氣管道清潔，防止氣體充入時污染。 7. 初始排期防渦流（湍流），初始充氣防過充。 8. 鏡片擺放環境和搬運過程中避免油污、水汽。 9. 工作環境改造成潔凈車間。 10. 將鍍膜機作業面板和主機隔開，減少主機產生的有害物質污染鏡片。真空鍍膜設備哪個牌子的好？四川真空鍍膜設備jiage

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【真空鍍膜設備之真空的測量】： 真空計： A、熱偶規、皮拉尼規、對流規： 用來測粗真空的真空計，從大氣到1E&5Torr，精度一般在10%，皮拉尼規精度高的可到5%, 反應較慢，受溫度變化的影響較大。 B、離子規： 用來測高真空或超高真空的真空計，熱燈絲的離子規測量范圍一般從1E&4到1E&9Torr，特殊的有些甚至可以低到&10甚至&11Torr，精度在10%~20%，燈絲在工作時遇到大氣會燒毀；冷陰極的離子規一般可以測到1E&11Torr，精度在20%~50%，特別是超高真空下測量精度很差，需要高壓電源，探頭內有磁鐵，使用時不能用于某些無磁的場合。 C、電容式壓力計： 探頭Zui大壓力從25000Torr到0.1Torr，動態范圍大約104范圍，比如，1Torr量程的Zui低是5E&4Torr，通常精度在讀數的0.25%，可以高到0.15%。 D、寬量程真空計： 皮拉尼規和熱燈絲離子規的組合，兩個規可以自動切換，在低真空時切換到皮拉尼規，高真空時可切換到離子規。北京uv真空鍍膜設備

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