光刻膠的去除在IC制造工藝流程中占非常重要的地位，其成本約占IC制造工藝的20-30%，光刻膠去膠效果太弱影響生產效率，去膠效果太強容易造成基底損傷，影響整個產品的成品率。傳統主流去膠方法采用濕法去膠，成本低效率高，但隨著技術不斷選代更新，越來越多IC制造商開始采用干法式去膠，干法式去膠工藝不同于傳統的濕法式去膠工藝，它不需要浸泡化學溶劑，也不用烘干，去膠過程更容易控制，避免過多算上基底，提高產品成品率。干法式去膠又被稱為等離子去膠，其原理同等離子清洗類似，主要通過氧原子核和光刻膠在等離子體環境中發生反應來去除光刻膠，由于光刻膠的基本成分是碳氫有機物，在射頻或微波作用下，氧氣電離成氧原子并與光刻膠發生化學反應，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通過泵被真空抽走，完成光刻膠的去除。等離子物理去膠過程:主要是物理作用對清洗物件進行轟擊達到去膠的目的，主要的氣體為氧氣、氬氣等，通過射頻產生氧離子，轟擊清洗物件，以獲得表面光滑的較大化，并且結果是親水性增大。等離子清洗機處理后的時效性會因處理時間、氣體反應類型、處理功率大小以及材料材質的不同而有所差異。安徽晶圓等離子清洗機量大從優

等離子清洗機通過使用物理或化學方法，可以有效地清潔、活化或改性材料表面。對于陶瓷基板，等離子清洗的主要作用是去除表面的污垢、氧化物、層間介質等雜質，同時通過活化表面，提高其潤濕性和粘合性。陶瓷基板處理后的主要優勢：1. 增強耐高溫性能：等離子清洗處理能夠去除陶瓷基板表面的污染物和氧化物，從而減少在高溫環境下的熱應力，提高耐高溫性能。2. 提高導電性：通過等離子清洗處理，可以在陶瓷基板表面引入導電物質，從而使其具有一定的導電性。這在需要電磁屏蔽或電絕緣的場合具有重要應用。3. 增加生物相容性：通過等離子清洗處理，可以在陶瓷基板表面引入生物活性物質，使其具有更好的生物相容性，可用于生物醫學領域，如人工關節、牙種植體等山西半導體封裝等離子清洗機服務電話大氣等離子清洗機，適用于各種平面材料清洗，在動力電池領域，可搭配旋轉頭使用。

片式真空等離子清洗機針對半導體行業，DB/WB工藝、RDL工藝、Molding工藝、FlipChip(FC)倒裝工藝等，能夠大幅提高其表面潤濕性，保證后續工藝質量，從而提高封裝工藝的可靠性。設備優勢：1.一體式電極板結構設計，等離子體密度高，均勻性好，處理效果佳2.雙工位處理平臺，四軌道同時上料，有效提升產能3.可兼容多種彈匣尺寸，可自動調節寬度，提升效率并具備彈匣有無或裝滿報警提示功能4.工控系統控制，一鍵式操作，自動化程度高。行業應用：1.金屬鍵合前處理：去除金屬焊盤上的有機污染物，提高焊接工藝的強度和可靠性2.LED行業：點銀膠、固晶、引線鍵合前、LED封裝等工序中可提高粘和強度，減少氣泡，提高發光率3.PCB/FPC行業：金屬鍵合前、塑封前、底部填充前處理、光刻膠去除、基板表面活化、鍍膜，去除靜電及有機污染物

塑料制品基本材料主要為聚丙烯(PP)、聚已烯(PE)、聚氣乙烯(PVC)、聚酯(PET)等，其表面特性因分子結構基材的極性基團，結晶程度和塑料的化學穩定性等不同而有很大的差異，這些因素對印刷油墨層的粘附牢度影響很大。對屬于極性結構的PS(聚苯乙烯)、PVC，印刷前不雪要做表面預處理，但對于其表面結構是非極性的PP、PE、PET等，其化學穩定性極高，不易被大多數油墨溶劑所滲透和溶解，與油墨印刷的結合牢度很低，所以在印刷之前必須經過等離子體表面處理，使塑料表層活化生成新的化學鍵使表面粗化，從而提高油墨與塑料表面的結合粘附牢度;同時制造某些粒料過程中，按不同要求摻入了一定數量的助劑，附加劑，下開口劑，當吸膜定型后，這些助劑就浮在材料表面，形成肉眼看不見油層，這些油層對印刷是完全不利的，它使塑料表面不易粘合，附著力下降，當等離子體與塑料表面相遇時，產生了清潔、活化、刻蝕作用，表面得到了清潔，去除了碳化氫類污物，如油脂、輔助添加劑等，根據材料成分，其表面分子鏈結構得到了改變。建立了羥基、羧基等自由基團，這些基團對各種涂敷材料具有促進其粘合的作用，在粘合和油漆應用時得到了優化。在光伏電池制程中，等離子表面處理可用于玻璃基板表面活化，陽極表面改性，涂保護膜前處理等。

plasma等離子清洗機設備等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被徹底地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達到分子級。等離子清洗機除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學鍵發生重組，形成新的表面特性。對某些有特殊用途的材料，在超清洗過程中等離子清洗機的輝光放電不但加強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。plasma 等離子清洗機設備已應用于各種電子元件的制造，等離子清洗機及其清洗技術也應用在光學工業、機械與航天工業、高分子工業、污染防治工業和量測工業上，而且是產品提升的關鍵技術，比如說光學元件的鍍膜、復合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測器的制造，超微機械的加工技術、人工關節、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術的進步，才能開發完成。等離子處理可以有效地去除內飾件表面的有機污染物，并生成活性基團，達到清潔和活化的雙重效果。吉林在線式等離子清洗機產品介紹

等離子表面處理機利用高溫等離子體對材料進行物理或化學處理，以達到改善材料性能、提高產品質量的目的。安徽晶圓等離子清洗機量大從優

等離子清洗機的技術特點主要體現在其高效性、選擇性及環境友好性上。首先，高效性是指等離子清洗能夠在短時間內有效去除表面污染物，包括有機物、無機物、油脂、氧化物等，且清洗深度可控，不損傷基材表面。其次，選擇性是指等離子清洗過程中，通過調整放電參數和工作氣體種類，可以實現對特定污染物的針對性清洗，同時保持基材表面其他性質的穩定。此外，環境友好性也是等離子清洗機的一大亮點，整個清洗過程無需使用有害溶劑或化學品，減少了對環境的污染和對操作人員的健康危害。在應用優勢方面，等離子清洗能夠明顯提升產品的表面質量，增強表面附著力、潤濕性和生物相容性，從而提高產品的可靠性和使用壽命。同時，它還能簡化生產工藝流程，降低生產成本，提高生產效率，滿足現代工業對高質量、高效率生產的需求。安徽晶圓等離子清洗機量大從優