黑鉻﹕在不含**根而含有催化劑的鍍鉻中﹐可鍍取純黑色的鉻層。以氧化鉻為主成分﹐故耐蝕性和消旋旋旋旋旋光性能**﹐應用于航空﹑光學儀器﹑太陽能吸收板及日用品之防護-裝飾。第二節鍍鉻的陽極與一般電鍍不同﹐鍍鉻用鉛和鉛合金等不溶性陽極﹐這就是鍍鉻過程的特殊性決定的。1﹐鍍鉻中若采用鉻作陽極﹐陽極電流效率接近100%﹐高陰極電流效率*8%~~13%﹐鉻的濃度會不斷升高﹔2﹐鍍鉻是六價鉻直接還原的﹐而鉻陽極溶解的鉻成不同價態﹐而且以三價鉻為主﹐會導致三價鉻迅速增加﹐六價鉻不斷降﹐造成故障﹔3﹐金屬鉻很脆﹐難以成型和機加工。第三節鍍鉻工藝國內常規鍍鉻工藝規范(見下表1-5)國內加添加劑的中低濃度鍍鉻工藝規范(見下表1-6)國外加添加劑鍍鉻工藝規范(見下表1-7)第七章其它電鍍鍍銅﹕鍍銅層呈粉紅色﹐質柔軟﹐具有良好的延展性﹑導電性和導熱性﹐易于拋光﹐經適當的化學處理可得古銅色﹑銅綠色﹑黑色和本色等裝飾色彩。鍍銅易在空氣中失去光澤﹐與三氧化碳或氯化物作用﹐表面生成一層堿式碳酸銅或氯化銅膜層﹐受到硫化物的作用會生成棕色或黑色硫化銅﹐因此﹐做為裝飾性的鍍銅層需在表面涂覆有機覆蓋層。浙江共感電鍍有限公司致力于提供 電鍍產品,有需要可以聯系我司哦!天津工廠電鍍配方
有機溶劑除油:利用有機溶劑***制件表面油污的過程。除氫:將金屬制件在一定溫度下加熱處理或采用其它方法,以驅除在電鍍生產過程中金屬內部吸收氫的過程。退鍍:將制件表面鍍層退除的過程。弱浸蝕:電鍍前,在一定組成溶液中除去金屬制件表面極薄的氧化膜,并使表面活化的過程。強浸蝕:將金屬制件浸在較高濃度和一定溫度的浸蝕溶液中,以除去金屬制件表面上氧化物和銹蝕物的過程。鍍前處理:為使制件材質暴露出真實表面,消除內應力及其它特殊目的所需,除去油污、氧化物及內應力等種種前置技術處理。鍍后處理:為使鍍件增強防護性能,提高裝飾性能及其它特殊目的而進行的(諸如鈍化、熱熔、封閉和除氫等)處理。電鍍材料和設備術語陽極袋:用棉布或化纖織物制成的套在陽極上,以防止陽極泥渣進入溶液用的袋子。光亮劑:為獲得光亮鍍層在電解液中所使用的添加劑。阻化劑:能夠減緩化學反應或電化學反應速度的物質。表面活性劑:在添加量很低的情況下也能***降低界面張力的物質。乳化劑:能降低互不相溶的液體間的界面張力,使之形成乳濁液的物質。絡合劑:能與金屬離子或含有金屬離子的化合物結合而形成絡合物的物質。絕緣層:涂于電極或掛具的某一部分。寧夏加工廠電鍍定做電鍍產品,就選浙江共感電鍍有限公司,用戶的信賴之選,有需要可以聯系我司哦!
當年則因其成熟度不夠也使得用戶們吃足了苦頭。直到1988年以后**銅才逐漸正式取代了先前的焦磷酸銅,而成為***的基本配方。電鍍銅**銅十年后(1995)的電路板開始采孔徑,在板厚不變或板厚增加下,常使得待鍍之通孔出現4:l至10:l高縱橫比的困難境界。為了增加深孔鍍銅的分布力(ThrowingPower)起見,首先即調高槽液基本配方的酸銅比(拉高至10:l以上),并也另在添加劑配方上著手變化。而且還將固有垂直掛鍍的設備中,更換其傳統直流(DC)供電,轉型為變化電流(廣義的AC)式反脈沖電流(ReversePulse)的革新方式。要其反電流密度很大但間卻很短的情況下,冀能將兩端孔口附近較厚的鍍銅層予以減薄,但又不致影響深孔中心銅層應有的厚度,于是各種脈沖供電方式也進入了鍍銅的領域。電鍍銅水平鍍銅隨后為了方便薄板的操作與深孔穿透以及自動化能力起見,板面一次銅(全板鍍銅)的操作,又曾改變為水平自走方式的電鍍銅。在其陰陽極距離大幅拉近而降低電阻下,可用之電流密度遂得以提高2-4倍,而使量產能力為之大增。此種新式密閉水平鍍銅之陽極起先還沿用可溶的銅球,但為了減少量產中頻繁拆機,一再補充銅球的麻煩起見。后來又改采非溶解性的鈦網陽極。而且另在反脈沖電源的協助下。
在陽極則發生與陰極完全相反的反應,即陽極界面上發生金屬M的溶解,釋放n個電子生成金屬離子Mn+。電鍍原理圖電鍍反應機理A、電極電位當金屬電極浸入含有該金屬離子的溶液中時,存在如下的平衡,即金屬失電子而溶解于溶液的反應和金屬離子得電子而析出金屬的逆反應應同時存在:Mn++ne=M平衡電位與金屬的本性和溶液的溫度,濃度有關。為了精確比較物質本性對平衡電位的影響,人們規定當溶液溫度為250℃,金屬離子的濃度為1mol/L時,測得的電位叫標準電極電位。標準電極電位負值較大的金屬都易失掉電子被氧化,而標準電極電位正值較大的金屬都易得到電子被還原。B、極化所謂極化就是指有電流通過電極時,電極電位偏離平衡電極電位的現象。所以,又把電流-電位曲線稱為極化曲線。產生極化作用的原因主要是電化學極化和濃差極化。1、電化學極化由于陰極上電化學反應速度小于外電源供給電子的速度,從而使電極電位向負的方向移動而引起的極化作用。2、濃差極化由于鄰近電極表液層的濃度與溶液主體的濃度發生差異而產生的極化稱濃差極化,這是由于溶液中離子擴散速度小于電子運動造成的。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場的作用下。浙江共感電鍍有限公司是一家專業提供 電鍍產品的公司。
不但對高縱橫比小徑深孔的量產如虎添翼,更對2001年興起的HDI雷射微盲孔(Microvia)也極有助益。不過也由于非溶陽極已不再出現溶銅之主反應,而將所有能量集中于“產生氧氣”之不良副反應,久之難免會對添加劑與Ir/Ti式DSA(商標名稱為"尺寸安定式陽極")昂貴的非溶陽極造成傷害,甚至還影響到鍍銅層的物理性質。至于2002年新冒出二階深微肓孔所需的填孔鍍銅,已使得水平鍍銅出現了力猶未逮的窘境。對于此種困難,勢必又將是另一番新的挑戰。電鍍銅垂直自走的掛鍍銅1999初日本上村公司曾推出一種U-CON制程,即屬精密擾流噴流之槽液,與**兩側銅陽極的垂直自走掛鍍;但由于成本及售價都極為昂貴,于是**銅陽極的自正式掛鍍又開始受到重視。電鍍銅其它相關編輯電鍍銅**新挑戰的背景BGA球腳之承焊銅墊內設微盲孔(MicroVi**nPad),不但可節省板面用地,而且一改舊有啞鈐式(DogBoning)層間通孔較長的間接互連(Interconnection),而成為直上直下較短的盲孔互連;既可減短線長與孔長而得以壓制高頻中的寄生噪訊外(Parasitics),又能避免了內層Gnd/Vcc大銅面遭到通孔的刺破,而使得歸途(ReturnPath)之回軌免于受損。對于高頻訊號完整性(SignalIntegrity)總體方面的效益將會更好。電鍍產品,就選浙江共感電鍍有限公司,讓您滿意,有想法可以來我司咨詢!天津加工廠電鍍工藝
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襄佐添加劑的發揮作用,以及幫忙趕走板面或孔口氫氣之不良聚集等。吹氣宜采清潔干燥的鼓風方式,可按槽液之液面大小而設定其吹氣量(ft3/min;CMF)。一般電路板之吹氣不宜太強,其空氣流速約在,且具高縱橫比(5/1以上)通孔之板類其吹氣量還更應降低為-。太強烈的渦流(Turbulence)反而會造成深孔兩端出口孔環(AnnularRing)上的魚眼(FishEye)或碟陷(DishDown)。吹氣管**好直接安置在陰極板面正下方的槽底,***不可放在陽極下方,以免發生鍍層的粗糙。可將之架高約2-3寸,此吹管在朝下之左右兩側兩排,每隔一寸各打一個錯開的吹口,兩排孔左右朝下的夾角約在35-400之間。如此翻攪之下將可減少槽底污物的淤積。至于陰極桿往復移動式的機械攪拌,則以板面450之方向為宜。某些業者甚至還另采用垂直彈跳式的震動,以趕走氫氣。整流器的漣波(Ripple)應控制在5%以下(注意此數據應在實際量產的動態連續供電情形下去量測,而非靜態無負載的單純量測),連續過續也是必須操作設備。濾心的孔隙度約在3-5um之間。正常翻槽量(Turnover)每小時應在2-3次左右。要注意的是其回槽吐水口***不可夾雜有細碎氣泡,以減少待鍍板面的球坑或***坑。電鍍銅電路板水平鍍銅為了自動化與深孔銅厚之合規。天津工廠電鍍配方