漏電是芯片另一種常見的失效模式，其誘因復雜多樣，既可能源于晶體管長期工作后的老化衰減，也可能由氧化層存在裂紋等缺陷引發。

與短路類似，芯片內部發生漏電時，漏電路徑中會伴隨微弱的光發射現象——這種光信號的強度往往遠低于短路產生的光輻射，對檢測設備的靈敏度提出了極高要求。EMMI憑借其的微光探測能力，能夠捕捉到漏電產生的極微弱光信號。通過對芯片進行全域掃描，可將漏電區域以可視化圖像的形式清晰呈現，使工程師能直觀識別漏電位置與分布特征。

我司自研含微光顯微鏡等設備，獲多所高校、科研院所及企業認可使用，性能佳，廣受贊譽。廠家微光顯微鏡方案

EMMI的本質只是一臺光譜范圍廣，光子靈敏度高的顯微鏡。

但是為什么EMMI能夠應用于IC的失效分析呢？

原因就在于集成電路在通電后會出現三種情況：1.載流子復合；2.熱載流子；3.絕緣層漏電。當這三種情況發生時集成電路上就會產生微弱的熒光，這時EMMI就能捕獲這些微弱熒光，這就給了EMMI一個應用的機會而在IC的失效分析中，我們給予失效點一個偏壓產生熒光，然后EMMI捕獲電流中產生的微弱熒光。原理上，不管IC是否存在缺陷，只要滿足其機理在EMMI下都能觀測到熒光 廠家微光顯微鏡方案微光顯微鏡的自動瑕疵分類系統，可依據發光的強度、形狀等特征進行歸類，提高檢測報告的生成效率。

適用場景的分野，進一步凸顯了二者（微光顯微鏡&熱紅外顯微鏡）的互補價值。在邏輯芯片、存儲芯片的量產檢測中，微光顯微鏡通過對細微電缺陷的篩查，助力提升產品良率，降低批量報廢風險；而在功率器件、車規芯片的可靠性測試中，熱紅外顯微鏡對熱分布的監測，成為驗證產品穩定性的關鍵環節。實際檢測中，二者常組合使用：微光顯微鏡定位電缺陷后，熱紅外顯微鏡可進一步分析該缺陷是否引發異常發熱，形成 “光 - 熱” 聯動的全維度分析，為企業提供更佳的故障診斷依據。

半導體企業購入微光顯微鏡設備，是提升自身競爭力的關鍵舉措，原因在于芯片測試需要找到問題點 —— 失效分析。失效分析能定位芯片設計缺陷、制造瑕疵或可靠性問題，直接決定產品良率與市場口碑。微光顯微鏡憑借高靈敏度的光子探測能力，可捕捉芯片內部微弱發光信號，高效識別漏電、熱失控等隱性故障，為優化生產工藝、提升芯片性能提供關鍵數據支撐。在激烈的市場競爭中，快速完成失效分析意味著縮短研發周期、降低返工成本，同時通過提升產品可靠性鞏固客戶信任，這正是半導體企業在技術迭代與市場爭奪中保持優勢的邏輯。針對氮化鎵等寬禁帶半導體，它能適應其寬波長探測需求，助力寬禁帶器件的研發與應用。

致晟光電將熱紅外顯微鏡（Thermal EMMI）與微光顯微鏡 (EMMI) 集成的設備，在維護成本控制上展現出優勢。對于分開的兩臺設備，企業需配備專門人員分別學習兩套系統的維護知識，培訓內容涵蓋不同的機械結構、光學原理、軟件操作，還包括各自的故障診斷邏輯與校準流程，往往需要數月的系統培訓才能確保人員熟練操作，期間產生的培訓費用、時間成本居高不下。而使用一套集成設備只需一套維護體系，維護人員只需掌握一套系統的維護邏輯與操作規范，無需在兩套差異化的設備間切換學習，培訓周期可縮短近一半，大幅降低了培訓方面的人力與資金投入。
氧化層漏電及多晶硅晶須引發電流異常時，會產生光子，使微光顯微鏡下出現亮點。自銷微光顯微鏡方案設計

紅外成像可以不破壞芯片封裝，嘗試定位未開封芯片失效點并區分其在封裝還是 Die 內部，利于評估芯片質量。廠家微光顯微鏡方案

同時，我們誠摯歡迎各位客戶蒞臨蘇州實驗室進行深入交流。在這里，我們的專業技術團隊將為您詳細演示微光顯微鏡、熱紅外顯微鏡的全套操作流程，從基礎功能到高級應用，一一講解其中的技術原理與操作技巧。針對您在設備選型、使用場景、技術參數等方面的疑問，我們也會給予細致入微的解答，讓您對失效分析領域掌握設備優勢與適用范圍。

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