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吉林德國POLOS桌面無掩模光刻機

來源: 發(fā)布時間:2025-06-29

無掩模激光光刻技術(shù)為研究實驗室提供了一種多功能的納米/微米光刻工具,可用于創(chuàng)建亞微米級特征,并促進電路和器件的快速原型設(shè)計。經(jīng)濟高效的桌面配置使研究人員和行業(yè)從業(yè)者無需復雜的基礎(chǔ)設(shè)施和設(shè)備即可使用光刻技術(shù)。應(yīng)用范圍擴展至微機電系統(tǒng) (MEM)、生物醫(yī)學設(shè)備和微電子器件的設(shè)計和制造,例如以下領(lǐng)域:醫(yī)療(包括微流體)、半導體、電子、生物技術(shù)和生命科學、先進材料研究。全球無掩模光刻系統(tǒng)市場規(guī)模預(yù)計在 2022 年達到 3.3606 億美元,預(yù)計到 2028 年將增長至 5.0143 億美元,復合年增長率為 6.90%。由于對 5G、AIoT、物聯(lián)網(wǎng)以及半導體電路性能和能耗優(yōu)化的需求不斷增長,預(yù)計未來幾十年光刻市場將持續(xù)增長。微流體領(lǐng)域:支持 1-100μm 微通道定制,助力organ芯片血管網(wǎng)絡(luò)precise建模。吉林德國POLOS桌面無掩模光刻機

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Polos光刻機與德國Lab14集團、弗勞恩霍夫研究所等機構(gòu)合作,推動光子集成與半導體封裝技術(shù)發(fā)展。例如,Quantum X align系統(tǒng)的高對準精度(100 nm)為光通信芯片提供可靠解決方案,彰顯德國精密制造與全球產(chǎn)業(yè)鏈整合的優(yōu)勢。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。吉林德國POLOS桌面無掩模光刻機光束引擎高速掃描:SPS POLOS μ單次寫入400 μm區(qū)域,壓電驅(qū)動提升掃描速度。

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SPS POLOS μ以桌面化設(shè)計降低設(shè)備投入成本,無需掩膜制備費用。其光束引擎通過壓電驅(qū)動快速掃描,單次寫入?yún)^(qū)域達400 μm,支持光刻膠如AZ5214E的高效曝光。研究案例顯示,該設(shè)備成功制備了間距3 μm的微圖案陣列和叉指電容器,助力納米材料與柔性電子器件的快速原型驗證。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術(shù)帶到了桌面上,進一步提升了其優(yōu)勢。

在organ芯片研究中,模擬人體organ微環(huán)境需要微米級精度的三維結(jié)構(gòu)。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術(shù),幫助科研團隊在 PDMS 材料上構(gòu)建出仿生血管網(wǎng)絡(luò)與組織界面。某再生醫(yī)學實驗室使用 Polos 光刻機,成功制備出肝芯片微通道,其內(nèi)皮細胞黏附率較傳統(tǒng)方法提升 40%,且可通過軟件實時調(diào)整通道曲率,precise模擬肝臟血流動力學。該技術(shù)縮短了organ芯片的研發(fā)周期,為藥物肝毒性測試提供了更真實的體外模型,相關(guān)成果入選《自然?生物技術(shù)》年度創(chuàng)新技術(shù)案例。圖案靈活性:支持 STL 模型直接導入,30 分鐘完成從設(shè)計到曝光全流程。

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可編程微流控芯片需要集成電路控制與流體通道,傳統(tǒng)工藝需多次掩模對準,良率only 30%。Polos 光刻機的多材料同步曝光技術(shù),支持在同一塊基板上直接制備金屬電極與 PDMS 通道,將良率提升至 85%。某微系統(tǒng)實驗室利用該特性,開發(fā)出可實時切換流路的生化分析芯片,通過軟件輸入不同圖案,10 分鐘內(nèi)即可完成從 DNA 擴增到蛋白質(zhì)檢測的模塊切換。該成果應(yīng)用于 POCT 設(shè)備,使現(xiàn)場快速檢測系統(tǒng)的體積縮小 60%,檢測時間縮短至傳統(tǒng)方法的 1/3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。納 / 微機械:亞微米級結(jié)構(gòu)加工,微型齒輪精度達 ±50nm,推動微機電系統(tǒng)創(chuàng)新。吉林德國POLOS桌面無掩模光刻機

柔性電子制造:可制備叉指電容器與高頻電路,推動5G通信與物聯(lián)網(wǎng)硬件發(fā)展。吉林德國POLOS桌面無掩模光刻機

植入式神經(jīng)電極需要兼具生物相容性與導電性能,表面微圖案可remarkable影響細胞 - 電極界面。Polos 光刻機在鉑銥合金電極表面刻制出 10μm 間距的蜂窩狀微孔,某神經(jīng)工程團隊發(fā)現(xiàn)該結(jié)構(gòu)使神經(jīng)元突觸密度提升 20%,信號采集噪聲降低 35%。其無掩模特性支持根據(jù)不同腦區(qū)結(jié)構(gòu)定制電極陣列,在大鼠海馬區(qū)電生理實驗中,單神經(jīng)元信號識別率從 60% 提升至 85%,為腦機接口技術(shù)的臨床轉(zhuǎn)化奠定了硬件基礎(chǔ)。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。吉林德國POLOS桌面無掩模光刻機

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