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TPPNanoscribe激光直寫

來源: 發布時間:2024-08-25

作為微納加工和3D打印領域的帶領者,Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域,諸如力學超材料,微納機器人,再生醫學工程,微光學等創新領域的研究和發展,并提供優化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強了全球銷售活動,并完善了亞太地區客戶服務范圍。此次推出的中文版官網在視覺效果上更清晰,結構分類上更明確。首頁導航欄包括了產品信息,產品應用數據庫,公司資訊和技術支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經理崔博士表示:“中文網站的發布是件值得令人高興的事情,我們希望新的中文網站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙,更全方面深入得了解我們的產品以及在科研和工業方面的應用。” 德國Nanoscribe公司的雙光子聚合技術的3D打印設備為亞微尺度和納尺度結構制造提供了有效的解決方案。TPPNanoscribe激光直寫

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科學家們基于Nanoscribe的雙光子聚合 技術(2PP) ,發明了GRIN 光學微納制造工藝。這種新的制造技術實現了簡單一步操作即可同時控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學元件。憑借這種全新的制造工藝,科學家們完成了令人印象深刻的展示制作,打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡(15?μm 直徑)。相似于人類眼睛晶狀體的梯度,這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加,使其具有獨特的聚光特性。Nanoscribe的Photonic Professional打印系統可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進行直寫,而是在孔型支架內。通過調整直寫激光的曝光參數可以改變微孔支架內材料的聚合量,從而影響打印材料的有效折射率。北京2PPNanoscribe微機械研究人員利用Nanoscribe公司的3D光刻技術將光學引線鍵合到芯片上,有效地將各種光子集成平臺連接起來。

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光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,PIC) 與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減器、光復用/解復用器以及光放大器等。集成光子學可較廣地應用于各種領域,例如數據通訊,激光雷達系統的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術,尤其是微型光子組件應用,可以很大程度縮小復雜光學系統的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口,例如光纖到芯片的連接,可以有效提高集成度和功能性。


Nanoscribe公司成立于2007年,總部位于德國卡爾斯魯厄,秉持著卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的技術背景的德國卡爾蔡司公司的支持,經過十幾年的不斷研究和成長,已然成為微納米生產的帶領者,一直致力于推動諸如力學超材料,微納機器人,再生醫學工程,微光學等創新領域的研究和發展,并提供優化制程方案。如今,Nanoscribe客戶遍布全球30個國家,超過1500名用戶正在使用Nanoscribe3D打印系統。這些大學包含哈佛大學、加州理工學院、牛津大學、倫敦帝國理工學院和蘇黎世聯邦理工學院等等。為了拓展并加強中國及亞太地區的銷售推廣和售后服務范圍,Nanoscribe于2017年底在上海成立了獨資子公司-納糯三維科技(上海)有限公司  增材制造技術存在多方面的優勢,如需了解請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造公司,一直致力于開發和生產3D 微納加工系統和無掩模光刻系統,以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年,是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創新科技企業的中,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優于主導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。


科學家們使用德國Nanoscribe 的3D打印設備制造了復雜的微孔膜結構。德國超高速Nanoscribe

Nanoscribe在中國的子公司納糯三維邀您一起探討增材制造的現狀和未來。TPPNanoscribe激光直寫

Nanoscribe對準雙光可光刻技術搭配nanoPrintX,一種基于場景圖概念的軟件工具,可用于定義對準3D打印的打印項目。樹狀數據結構提供了所有與打印相關的對象和操作的分層組織,用于定義何時、何地、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征,例如芯片邊緣和光纖表面。使用Quantum X align系統的共焦單元或光纖照明單元,可以識別這些特定的基板標記,并將其與在nanoPrintX中定義的數字模型進行匹配。對準雙光子光刻技術和nanoPrintX軟件是Quantum X align系統的標配。TPPNanoscribe激光直寫

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