Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續執行一系列打印作業。該軟件有程序向導，可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業，并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。例如，可接受高達32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造。在雙光子灰度光刻工藝中，激光功率調制和動態聚焦定位在高掃描速度下可實現同步進行，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制。Nanoscribe稱，QuantumX在每個掃描區域內可產生簡單和復雜的光學形狀，具有可變的特征高度雙光子聚合微納加工系統利用飛秒激光雙光子聚合技術可以深入透明材料內部。山西新型雙光子聚合3D光刻

雙光子聚合3D打印技術的發展也面臨一些挑戰。首先，材料選擇和性能仍然是一個問題。目前可用的光敏樹脂材料種類有限，無法滿足所有需求。其次，打印速度和成本也是制約技術發展的因素。雖然雙光子聚合3D打印技術比傳統技術更快，但仍然需要進一步提高效率和降低成本。然而，隨著技術的不斷進步和創新，雙光子聚合3D打印技術有望在未來取得更大的突破。科研人員正在不斷探索新的材料和打印方法，以提高打印質量和效率。同時，企業也加大了對該技術的支持和投入，推動其在各個領域的應用。雙光子聚合3D打印技術是一項具有巨大潛力的創新科技。它將為制造業帶來的變革，推動產品設計和制造的發展。我們有理由相信，在不久的將來，雙光子聚合3D打印技術將成為制造業的主流技術，為我們帶來更加美好的未來。山西新型雙光子聚合3D光刻Photonic Professional GT2設備是將雙光子聚合的極高精度技術特點與跨尺度的微觀3D打印完美結合。

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優先領導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造**，一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統，以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。雙光子聚合激光直寫技術可以實現亞微米級別的加工精度，比傳統的納米加工技術更加精細。

雙光子聚合激光直寫技術在生物醫學領域也有著廣泛的應用前景。通過控制激光束的強度和聚焦點的位置，我們可以在生物材料中實現微創傷害，實現精確的細胞操作。這為組織工程等領域的研究提供了新的工具和方法，有望推動醫學科學的進一步發展。雙光子聚合激光直寫技術的發展離不開科研人員的不懈努力和創新精神。他們通過不斷優化激光系統、改進材料性能，使得這項技術在實際應用中更加穩定和可靠。同時，企業的支持也為雙光子聚合激光直寫技術的發展提供了堅實的基礎。展望未來，雙光子聚合激光直寫技術將繼續推動科技的發展。我們有理由相信，隨著技術的不斷成熟和應用的不斷拓展，雙光子聚合激光直寫技術將在更多領域展現出其無限的潛力，為人類創造更美好的未來。雙光子聚合三維微制造系統是一種用于化學領域的工藝試驗儀器。江蘇雙光子聚合三維微納米加工系統

雙光子聚合技術在3D精密加工上具有很大的潛力。山西新型雙光子聚合3D光刻

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之，工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。山西新型雙光子聚合3D光刻