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河北硅拋光液性能

來源: 發布時間:2021-12-27

不銹鋼拋光液1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質,對環境友好。2.本產品分為粗拋、中拋、精拋三個級別。3.用于各種不同型號的不銹鋼金屬表面的各種效果要求的拋光。產品概述本產品是專門針對不銹鋼拋光的一款高效拋光液,具有較好的化學物理拋光去除平衡,能快速達到拋光效果,而且無拋光橘皮、坑點等缺陷的產生。主要對不銹鋼金屬表明進行粗加工、中加工和精加工,以達到不同的拋光效果。主要成分:氧化鋁/白剛玉/硅溶膠應用領域:1.適用于各種不銹鋼材料的拋光,具有良好的拋光效果。2.主要應用在機械制造、電子零部件、儀表儀器、輕工、鐘表零件、、航天、紡織器材、汽車零部件、軸承行業、醫療器械、精密件、工具等多種行業領域。(可根據客戶的需求提供定制產品)。氧化鋁拋光液樸實機械拋光可使樣品外表平整,但是卻無法確保銅不發生,因而適合涂層丈量和邊界層分析。河北硅拋光液性能

納米拋光液應用范圍:1、透明陶瓷:高壓鈉燈燈管、EP-ROM窗口。2、化妝品填料。3、單晶、紅寶石、藍寶石、白寶石、釔鋁石榴石。4、**度氧化鋁陶瓷、C基板、封裝材料、***、高純坩堝、繞線軸、轟擊靶、爐管。5、精密拋光材料、玻璃制品、金屬制品、半導體材料、塑料、磁帶、打磨帶。6、涂料、橡膠、塑料耐磨增強材料、高級耐水材料。7、氣相沉積材料、熒光材料、特種玻璃、復合材料和樹脂材料。8、催化劑、催化載體、分析試劑。9、汽車表面漆層、宇航飛機機翼前緣。浙江中性拋光液價格本公司的納米拋光液適合手機外殼拋光,汽車表面拋光,高級不銹鋼外殼拋光。

光學玻璃拋光液是專為手機表面而研發的其操作簡便,可視污漬的多少只需將光學玻璃拋光液用超聲清洗、自動浸泡或手洗即可徹底清潔手機表面的各種污漬且不傷手機。光學玻璃拋光液具有拋光速度快、使用壽命長、良好的懸浮性、不沾附、能適合于各種材料的拋光,適合于拋光高精密玻璃,能有效解決材質劃傷和拋光粉堆積造成的表面斑點現象。一、光學玻璃拋光液技術參數1、光學玻璃拋光液中心粒徑d50:1um-1.5um2、光學玻璃拋光液PH值:7二、光學玻璃拋光液適用范圍:光學玻璃拋光液***適用于精密光學器件、硬盤基片、液晶屏幕顯示器等,高精密度光學玻璃拋光.光學鏡頭、光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋光。

    LED芯片主要采用的襯底材料是藍寶石,在加工過程中需要對其進行減薄和拋光。藍寶石的硬度極高,普通磨料難以對其進行加工。在用金剛石研磨液對藍寶石襯底表面進行減薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。CMP拋光液利用“軟磨硬”的原理很好的實現了藍寶石表面的精密拋光。隨著LED行業的快速發展,聚晶金剛石研磨液及二氧化硅溶膠拋光液的需求也與日俱增。CMP技術還的應用于集成電路(IC)和超大規模集成電路中(ULSI)對基體材料硅晶片的拋光。隨著半導體工業的急速發展,對拋光技術提出了新的要求,傳統的拋光技術(如:基于淀積技術的選擇淀積、濺射等)雖然也可以提供“光滑”的表面,但卻都是局部平面化技術,不能做到全局平面化,而化學機械拋光技術解決了這個問題,它是可以在整個硅圓晶片上平坦化的工藝技術。 納米 拋光液用 于硬質材料的超精密拋光過程,可使被拋表面粗糙度低于0.2nm。

    不銹鋼拋光液1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質,對環境友好。2.本產品分為粗拋、中拋、精拋三個級別。3.用于各種不同型號的不銹鋼金屬表面的各種效果要求的拋光。產品概述本產品是專門針對不銹鋼拋光的一款高效拋光液,具有較好的化學物理拋光去除平衡,能快速達到拋光效果,而且無拋光橘皮、坑點等缺陷的產生。主要對不銹鋼金屬表明進行粗加工、中加工和精加工,以達到不同的拋光效果。主要成分:氧化鋁/白剛玉/硅溶膠應用領域:1.適用于各種不銹鋼材料的拋光,具有良好的拋光效果。2.主要應用在機械制造、電子零部件、儀表儀器、輕工、鐘表零件、、航天、紡織器材、汽車零部件、軸承行業、醫療器械、精密件、工具等多種行業領域。(可根據客戶的需求提供定制產品)。 碳化硅拋光液主要用于高精密光學儀器、硬盤基板、磁頭、陶瓷、光纖連接器等方面的研磨和拋光。浙江鉆石拋光液介紹

本公司銷售的納米拋光液應用范圍:透明陶瓷:高壓鈉燈燈管、EP-ROM窗口。河北硅拋光液性能

    LED行業目前LED芯片主要采用的襯底材料是藍寶石,在加工過程中需要對其進行減薄和拋光。藍寶石的硬度極高,普通磨料難以對其進行加工。在用金剛石研磨液對藍寶石襯底表面進行減薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。CMP拋光液利用“軟磨硬”的原理很好的實現了藍寶石表面的精密拋光。隨著LED行業的快速發展,聚晶金剛石研磨液及二氧化硅溶膠拋光液的需求也與日俱增。2.半導體行業CMP技術還***的應用于集成電路(IC)和超大規模集成電路中(ULSI)對基體材料硅晶片的拋光。隨著半導體工業的急速發展,對拋光技術提出了新的要求,傳統的拋光技術(如:基于淀積技術的選擇淀積、濺射等)雖然也可以提供“光滑”的表面,但卻都是局部平面化技術,不能做到全局平面化,而化學機械拋光技術解決了這個問題,它是目前***的可以在整個硅圓晶片上***平坦化的工藝技術。 河北硅拋光液性能

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