真空氣氛爐就是可以抽真空又可以通氣氛的爐型，它有箱式真空氣氛爐、管式真空氛爐、升降真空=氛爐等很多種不同爐型，雖然種類很多，但是在操作時候的注意事項卻大差不差，下面咱們就來了解一下：不能超負荷使用高溫真空氛爐， 高溫真空氣氛爐的較高使用溫度是指元件在真空中允許的本身表面溫度，并不是指加熱物質的溫度或加熱元件周圍的溫度。要注意真空電熱元件本身的溫度一股比它周圍的介質溫度或被加熱溫度高100°C。測量高溫真空=氛爐溫均勻性時，應注意測溫觸點的定位方式，以吸距加熱元件的遠近。高溫真空氣氛爐內經常少每天或每班使用前)用毛刷、掃帚或壓縮空氣吸塵器等清潔爐膛，要防止爐內氧化皮等雜質掉在電熱元件上，發生短路，甚燒壞鉬加熱棒。底板、鉬加熱棒、爐保溫層等耐熱鋼構件每使用一段時間，應該進行清理，嚴禁敲擊，可小心其氧化皮。氣氛爐工作室為耐火材料制成的爐膛，加熱元件置于其中。管式真空氣氛爐現貨

真空氣氛爐的結構形式，真空氣氛爐由爐體、加熱室、真空系統、充放氣系統、風冷循環系統、電控系統、氣動系統，水冷系統及料車組成。工作時將裝配好的工件通過料車將工件送入爐膛，然后關閉爐門，自動鎖緊，通過預設程序控制抽真空、加熱、冷卻等整個熱處理過程。真空氣氛爐普遍用于高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業對陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發、特種材料、建材、金屬、非金屬及其它化和物材料進行燒結﹑融化﹑分析、生產而研制的設備。真空熱處理高溫氣氛爐供應費用氣氛爐升溫之后，不可突然破壞真空系統，或打開爐門。

真空氣氛爐是真空技術與熱處理技術相結合的新型熱處理技術，真空熱處理所處的真空環境指的是低于一個大氣壓的氣氛環境，包括低真空、中等真空、高真空和超高真空，真空熱處理實際也屬于氣氛控制熱處理。真空熱處理是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態下進行的，真空熱處理可以實現幾乎所有的常規熱處理所能涉及的熱處理工藝，但熱處理質量較大提高。與常規熱處理相比，真空熱處理的同時，可實現無氧化、無脫碳、無滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達到表面光亮凈化的效果。

氣氛爐適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環境下進行燒結。氣氛爐采用LED數顯儀表，可選配豪華型智能觸摸屏儀表，實時曲線顯示，也可用U盤導出數據，在電腦上安裝查看軟件，可選配485轉換接口，實現與計算機相互連接。選配的電腦控制系統來完成與單臺或多達200臺電爐的遠程控制、實時追蹤、歷史記錄、輸出報表等功能。氣氛爐在使用一段時間后，爐膛會出現微小的裂紋，這屬于正常現象，不會影響使用，普遍應用于實驗室、工礦企業、科研單位的前期實驗。電爐工作時，不得打開爐門。

氣氛爐的特點是在某一既定溫度下，向爐內同入一定成分的人工制備氣氛，以達到某種熱處理的目的，如氣體滲碳，碳氮共滲及光亮淬火，退火，正火等。設備主要有以下特點：爐子的密封性為了控制爐內的氣氛，維持爐內的壓力，爐內工作空間始終要與外界空氣隔絕，盡量避免漏氣和吸入空氣，故要求爐殼，砌體，爐門及所有外界連接零件如風扇，熱電偶，輻射管，推拉料機等采用密封裝置；爐內氣氛控制：為了維持爐內的一定碳勢，除了控制氣氛成分的穩定性外，還要對爐內氣氛進行自動控制。因此，需要設有各種控制儀表，以便對爐內氣氛連續或定期測定并調整爐內的供氣量。加熱方法為了保證氣氛的穩定性，氣氛爐可分為馬弗爐和無馬弗爐兩種，馬弗爐的火焰在馬弗外，工件在馬弗內進行間接加熱；無馬弗爐采用各種火焰輻射管或者電輻射管，將火焰或者電熱體與爐氣隔開，以免破環爐內氣氛的穩定。高溫真空氣氛爐子升溫后，不能突然破壞真空系統，更不可打開高溫真空氣氛爐爐門。真空氣氛爐供貨公司

管式爐有單管、雙管、臥式、可開啟式管式電爐。管式真空氣氛爐現貨

真空氣氛爐工作完后，真空爐需保持在133Pa的真空狀態。設備內部有灰塵或不干凈時，應用酒精或汽油浸濕過的綢布擦拭干凈并使干燥。密封部位的零部件拆裝時，應用航空汽油或酒精清洗，干燥后涂上真空脂再裝上。設備外表面應經常擦拭，保持清潔干凈。真空氣氛爐回火爐的使用同樣如此。電氣控制系統的電接頭應保持干凈，緊固，每開爐前應檢查各緊固電接頭。應經常檢查爐子的絕緣電阻，當絕緣電阻小于1000歐時，則要認真檢查電熱元件，電極與隔時熱層的電阻等，并及排除故障后方可開爐。機械傳動件按一般設備潤滑要求，定期加油或換油。真空機組，閥門，儀器儀表等配套件，均按出廠產品所帶的技術說明書予以真空爐維修。管式真空氣氛爐現貨

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