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廣東進口NanoscribeQuantum X

來源: 發布時間:2025-07-08

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(MEMS)。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統制造耗時長且成本高。3D自由曲面耦合器利用全內反射,結合Nanoscribe的3D微加工技術可直接在光子芯片上進行3D打印制作。廣東進口NanoscribeQuantum X

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**是全世界一個主要死亡原因,2020年有近1000萬人死于**[1]。而其中膠質母細胞瘤是一種極具破壞性的腦**,其*細胞增殖非常快且具有**性。為了研究、***和破壞腦腫瘤細胞,研究人員正在研究使用質子放射***,該***手段已被證明在不同**類型中比x射線放射***更有效和微創的技術。然而,質子放射***的成本很高,這使得在動物和人類身上進行的試驗也變得非常昂貴,幾乎無法進行。質子放射***的高成本也導致缺乏從細胞水平了解質子對膠質母細胞瘤影響的臨床研究。體外模型為評估*細胞對藥物和輻射的反應提供了一個平臺。然而,由于無法模擬體內自然發生的3D環境,傳統2D單層細胞培養存在很大局限性。為了尋找更真實的模擬環境,代爾夫特理工大學(DelftUniversityofTechnology)的科學家們利用Nanoscribe的3D微納加工系統制作了3D工程細胞微環境,并且***次在質子束放射實驗中研究了所培養的膠質母細胞瘤細胞3D打印支架,以探究其對輻射的反應。令人印象深刻的是,該實驗結果顯示,與2D單層細胞相比,3D工程細胞培養中的DNA損傷得到了***降低。德國微納Nanoscribe生物醫學Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統技術具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。

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Nanoscribe稱,QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作

作為微納加工和3D打印領域的帶領者,Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域,諸如力學超材料,微納機器人,再生醫學工程,微光學等創新領域的研究和發展,并提供優化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強了全球銷售活動,并完善了亞太地區客戶服務范圍。此次推出的中文版官網在視覺效果上更清晰,結構分類上更明確。首頁導航欄包括了產品信息,產品應用數據庫,公司資訊和技術支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。更多有關高精度三維光刻的咨詢,歡迎致電納糯三維。

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來自德國亞琛工業大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計??茖W家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(2PP)打印微型通道的聚合物母版,并結合軟光刻技術做后續復制工作。隨后,在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭。這種集成復雜3D結構于傳統平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心,共同合作研發了世界上特別小的3D打印微型內窺鏡。該內窺鏡所用到的微光學器件寬度只有125微米,可以用于直徑小于半毫米的血管內進行內窺鏡檢查。而這個精密的微光學器件是通過使用德國Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設備制作的。微型內窺鏡可以幫助檢測人體動脈內的斑塊、血栓和膽固醇晶體,因此對于醫學檢測極其重要,可以有助于減少中風和心臟病發作的風險。Nanoscribe是一家**的增材制造技術公司,專注于高精度的微納米級3D打印技術。工業級Nanoscribe微流道

德國Nanoscribe公司的雙光子聚合技術的3D打印設備為亞微尺度和納尺度結構制造提供了有效的解決方案。廣東進口NanoscribeQuantum X

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(MEMS)。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件,可以直接作為原型使用,也可以作為批量生產母版工具。廣東進口NanoscribeQuantum X

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