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LED光刻膠生產(chǎn)廠家

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-04-20

吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟(jì),構(gòu)建半導(dǎo)體材料生態(tài)圈,發(fā)揮企業(yè)作用,吉田半導(dǎo)體聯(lián)合上下游資源,推動(dòng)?xùn)|莞松山湖半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新。
作為松山湖產(chǎn)業(yè)集群重要成員,吉田半導(dǎo)體聯(lián)合光刻機(jī)制造商、光電子企業(yè)共建材料生態(tài)圈。公司通過(guò)技術(shù)輸出與資源共享,幫助本地企業(yè)提升工藝水平,促進(jìn)產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新。例如,與華中科技大學(xué)合作研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠,極限分辨率 120nm,工藝寬容度優(yōu)于日本信越同類產(chǎn)品,已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)并出口東南亞,為區(qū)域經(jīng)濟(jì)發(fā)展注入新動(dòng)能。半導(dǎo)體材料選吉田,歐盟認(rèn)證,支持定制化解決方案!LED光刻膠生產(chǎn)廠家

LED光刻膠生產(chǎn)廠家,光刻膠
制版光刻膠應(yīng)用場(chǎng)景:印刷電路板(FPC)、觸摸屏(TP)的掩膜版制作,以及光學(xué)元件(如衍射光柵)的微納加工。特點(diǎn):高分辨率與耐化學(xué)性,確保模板的長(zhǎng)期使用壽命。

水性光刻膠(JT-1200)應(yīng)用場(chǎng)景:環(huán)保要求高的電子元件(如醫(yī)療設(shè)備、汽車電子)的制造,以及柔性電路的生產(chǎn)。特點(diǎn):以水為溶劑,低 VOC 排放,符合 RoHS 和 REACH 環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。

水油兩用光刻膠(JT-2001/SR-3308)適用于混合工藝場(chǎng)景(如部分環(huán)節(jié)需水性顯影,部分需溶劑顯影),提升生產(chǎn)靈活性。 LED光刻膠生產(chǎn)廠家負(fù)性光刻膠生產(chǎn)原料。

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技術(shù)優(yōu)勢(shì):23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破

 全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實(shí)現(xiàn)了從樹(shù)脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如,其納米壓印光刻膠通過(guò)自主開(kāi)發(fā)的樹(shù)脂體系,實(shí)現(xiàn)了3μm的分辨率,適用于MEMS傳感器、光學(xué)器件等領(lǐng)域。
技術(shù)壁壘:公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗(yàn),掌握光刻膠主要原材料(如樹(shù)脂、光酸)的合成技術(shù),部分原材料純度達(dá)PPT級(jí)。

 細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進(jìn)

? 納米壓印光刻膠:在納米級(jí)圖案化領(lǐng)域(如量子點(diǎn)顯示、生物芯片)實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破,分辨率達(dá)3μm,填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空缺。

? LCD光刻膠:針對(duì)顯示面板行業(yè)需求,開(kāi)發(fā)出高感光度、高對(duì)比度的光刻膠,適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術(shù)。

 研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認(rèn)證,與新材料領(lǐng)域同伴們合作開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體光刻膠,計(jì)劃2025年啟動(dòng)半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā)。

光刻膠的工作原理:

1. 涂覆與曝光:在基底(如硅片、玻璃、聚合物)表面均勻涂覆光刻膠,通過(guò)掩膜(或直接電子束掃描)對(duì)特定區(qū)域曝光。

2. 化學(xué)變化:曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)(正性膠曝光后溶解,負(fù)性膠曝光后交聯(lián)不溶)。

3. 顯影與刻蝕:溶解未反應(yīng)的部分,留下圖案化的膠層,作為后續(xù)刻蝕或沉積的掩模,將圖案轉(zhuǎn)移到基底上。

在納米技術(shù)中,關(guān)鍵挑戰(zhàn)是突破光的衍射極限(λ/2),因此需依賴高能束曝光技術(shù)(如電子束光刻、極紫外EUV光刻)和高性能光刻膠(高分辨率、低缺陷)。

告別顯影殘留!化學(xué)增幅型光刻膠助力封裝。

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? 正性光刻膠

? YK-300:適用于半導(dǎo)體制造,具備高分辨率(線寬≤10μm)、耐高溫(250℃)、耐酸堿腐蝕特性,主要用于28nm及以上制程的晶圓制造,適配UV光源(365nm/405nm)。

? 技術(shù)優(yōu)勢(shì):采用進(jìn)口樹(shù)脂及光引發(fā)劑,絕緣阻抗高(>10^14Ω),滿足半導(dǎo)體器件對(duì)絕緣性的嚴(yán)苛要求。

? 負(fù)性光刻膠

? JT-1000:負(fù)性膠,主打優(yōu)異抗深蝕刻性能,分辨率達(dá)3μm,適用于功率半導(dǎo)體、MEMS器件制造,可承受氫氟酸(HF)、磷酸(H3PO4)等強(qiáng)腐蝕液處理。

? SU-3:經(jīng)濟(jì)型負(fù)性膠,性價(jià)比高,適用于分立器件及低端邏輯芯片,光源適應(yīng)性廣(248nm-436nm),曝光靈敏度≤200mJ/cm2。

2. 顯示面板光刻膠

? LCD正性光刻膠YK-200:專為T(mén)FT-LCD制程設(shè)計(jì),具備高涂布均勻性(膜厚誤差±1%)、良好的基板附著力,用于彩色濾光片(CF)和陣列基板(Array)制造,支持8.5代線以上大規(guī)模生產(chǎn)。

? 水性感光膠JT-1200:環(huán)保型產(chǎn)品,VOC含量<50g/L,符合歐盟RoHS標(biāo)準(zhǔn),適用于柔性顯示基板,可制作20μm以下精細(xì)網(wǎng)點(diǎn),主要供應(yīng)京東方、TCL等面板廠商。

吉田公司以無(wú)鹵無(wú)鉛配方與低 VOC 工藝打造光刻膠。湖北油墨光刻膠工廠

水性感光膠推薦吉田 JT-1200,水油兼容配方,鋼片加工精度 ±5μm!LED光刻膠生產(chǎn)廠家

LCD 正性光刻膠(YK-200)應(yīng)用場(chǎng)景:LCD 面板的電極圖案化(如 TFT-LCD 的柵極、源漏極)、彩色濾光片制造。特點(diǎn):高感光度與均勻涂布性,確保顯示面板的高對(duì)比度和色彩還原度。
厚膜光刻膠(JT-3001)應(yīng)用場(chǎng)景:Mini LED/Micro LED 顯示基板的巨量轉(zhuǎn)移技術(shù),以及 OLED 面板的封裝工藝。特點(diǎn):膜厚可控(可達(dá)數(shù)十微米),滿足高密度像素陣列的精細(xì)加工需求。
PCB 光刻膠(如 SU-3 負(fù)性光刻膠)應(yīng)用場(chǎng)景:高多層 PCB、HDI(高密度互連)板的線路成像,以及 IC 載板的精細(xì)線路制作。特點(diǎn):抗電鍍性能優(yōu)異,支持細(xì)至 50μm 以下的線寬 / 線距,適應(yīng) 5G 通信、服務(wù)器等 PCB 需求。 LED光刻膠生產(chǎn)廠家

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司是一家有著先進(jìn)的發(fā)展理念,先進(jìn)的管理經(jīng)驗(yàn),在發(fā)展過(guò)程中不斷完善自己,要求自己,不斷創(chuàng)新,時(shí)刻準(zhǔn)備著迎接更多挑戰(zhàn)的活力公司,在廣東省等地區(qū)的電工電氣中匯聚了大量的人脈以及**,在業(yè)界也收獲了很多良好的評(píng)價(jià),這些都源自于自身的努力和大家共同進(jìn)步的結(jié)果,這些評(píng)價(jià)對(duì)我們而言是比較好的前進(jìn)動(dòng)力,也促使我們?cè)谝院蟮牡缆飞媳3謯^發(fā)圖強(qiáng)、一往無(wú)前的進(jìn)取創(chuàng)新精神,努力把公司發(fā)展戰(zhàn)略推向一個(gè)新高度,在全體員工共同努力之下,全力拼搏將共同吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起攜手走向更好的未來(lái),創(chuàng)造更有價(jià)值的產(chǎn)品,我們將以更好的狀態(tài),更認(rèn)真的態(tài)度,更飽滿的精力去創(chuàng)造,去拼搏,去努力,讓我們一起更好更快的成長(zhǎng)!

標(biāo)簽: 光刻膠 錫膏 錫片
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