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據外媒報道，美國威斯康星大學麥迪遜分校（UWMadison）的研究人員們，已經同合作伙伴聯手實現了一種突破性的方法。不僅**簡化了低成本高性能、無線靈活的金屬氧化物半導體場效應晶體管（MOSFET）的制造工藝，還克服了許多使用標準技術制造設備時所遇到的操作上的問題。該技術可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板，并在可穿戴電子設備和彎曲傳感器等領域派上大用場。研究人員稱，這項突破性的納米壓印平板印刷制造工藝，可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能，MOSFET已經迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管。為了滿足不斷縮小的集成電路需求，MOSFE...

納米壓印設備哪個好？預墨印章用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。該技術用于表面化學的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。 納米壓印設備可以進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。 將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉變溫度以上，從而將材料轉變為粘性狀態。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量。微接觸納米壓印可以免稅嗎 為了優化工藝鏈，HERCULES N...

UV納米壓印光刻 EV Group提供完整的UV納米壓印光刻（UV-NIL）產品線，包括不同的***積壓印系統，大面積壓印機，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。除了柔軟的UV-NIL，EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高 效，強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度，高度均勻的圖案層和**少的殘留層，并具有易于擴展的晶圓尺寸和產量。EVG的SmartNI技術達到了納米壓印的長期預期，即納米壓印是一種用于大規模生產微米和納米級結構的高性能，低成本和具有批量生產能力的技術。 EVG先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的...

面板廠為補償較低的開口率，多運用在背光模塊搭載較多LED的技術，但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程，可確保適當的開口率，降低用電量。利用一般曝光設備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經過數十次的曝光制程。不僅制程時間長，經過多次曝光后，在圖樣間會形成細微的縫隙，無法完整顯示影像。若將NIL技術應用在5代設備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質量的生產制程，是LCD領域中***一個創新任務。若加速NI...

納米壓印光刻（NIL） -SmartNIL ? 用于大批量生產的大面積軟UV納米壓印光刻工藝 介紹： EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商。EVG開拓了這種非常規光刻技術多年，掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。EVG的專有SmartNIL技術通過多年的研究，開發和現場經驗進行了優化，以解決常規光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。 如果要獲得詳細信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司或者訪問官網。 EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制（制造）的***選擇。北京納米...

IQ Aligner UV-NIL特征： 用于光學元件的微成型應用 用于全場納米壓印應用 三個**控制的Z軸，可在印模和基材之間實現出色的楔形補償 三個**控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制 利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝 EVG專有的全自動浮雕功能 抵抗分配站集成 粘合對準和紫外線粘合功能 IQ Aligner UV-NIL技術數據： 晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米 解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型 曝光...

EVG ? 510 HE熱壓印系統 應用：高度靈活的熱壓印系統，用于研發和小批量生產 EVG510 HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。該設備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質量納米圖案轉印的工藝。 EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執行 閉環冷卻水供應選項 外部浮雕和冷卻站 EVG?720/EVG?...

EVG ? 520 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印 氣動壓花選項 軟件控制的流程執行 EVG ? 520 HE技術數據 加熱器尺寸：150毫米，200毫米 比較大基板尺寸：150毫米，200毫米 **小基板尺寸：單芯片，100毫米 比較大接觸力：10、20、60、100 kN 比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C 粘合卡盤系統/對準系統 150毫米加熱器：EVG ? 610，EVG ? 620，EVG...

**的衍射波導設計商和制造商WaveOptics***宣布與EV Group（EVG）進行合作，EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的**供應商，以帶來高性能增強現實（ AR）波導以當今業界*低的成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關鍵光學組件。 WaveOptics首席執行官David Hayes評論：“這一合作伙伴關系標志著增強現實行業的轉折點，是大規模生產高質量增強現實解決方案的關鍵步驟，這是迄今為止尚無法實現的能力。” EVG的專業知識與我們可擴展的通用技術的結合將使到明年年底，AR終端用戶產品的市場價格將低于600美元。“這項合作...

SmartNIL是行業**的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。 注：*分辨率取決于過程和模板 如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 納米壓印設備哪個好？預墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。陜西納米壓印出廠價 EVG ? 770分步...

納米壓印光刻（NIL）技術 EVG是納米壓印光刻（NIL）設備和集成工藝的市場**供應商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實現了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產。NIL是產生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當有成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學以及**近各種衍射光學元件的各種商業應用。 其中EVG紫外光納米壓印系統型號包含： EVG?610 EVG?620NT EVG?6200NT EVG?720 EVG?7200 EVG?7200LA HERCUL...

NIL系統肖特增強現實負責人RuedigerSprengard博士表示：“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm，對于實現我們客戶滿足當今和未來**AR/MR設備不斷增長的市場需求所需的規模經濟產量來說至關重要。通過攜手合作，EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設備和供應鏈的就緒性。”在此之前，使用光刻/納米壓印技術對具有光子學應用結構的玻璃基板進行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設備推向大眾消費和工業市場邁出的重要一步。不過，在這些較大的基板上保持高基板質量和工藝均勻性是很難控制的，需要先進的自動化和工藝控制能力...

SmartNIL技術簡介 SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 EVG?770可用于連續重復的納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作。EVG7200納米壓印供應商家 EVG ? 720特征：...

HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統支持各種設備和應用程序的生產，包括用于增強/虛擬現實（AR / VR）頭戴式耳機的光學設備，3D傳感器，生物醫學設備，納米光子學和等離激元學。 HERCULES ? NIL特征： 全自動UV-NIL壓印和低力剝離 **多300毫米的基材 完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理） 200毫米/ 300毫米橋接工具能力 全區域烙印覆蓋 批量生產**小40 nm或更小的結構 支持各種結構...

EV Group的一系列高精度熱壓花系統基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術，具有非常高的復制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。 NILPhotonics?能力中心-支持和開發 NILPhotonics能力中心是經過驗證的創新孵化器。 歡迎各位客戶來樣制作，驗證EVG的納米壓印設備的性能。 EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的，因為它以**小的占位面積提供了...

UV納米壓印光刻 EV Group提供完整的UV納米壓印光刻（UV-NIL）產品線，包括不同的***積壓印系統，大面積壓印機，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。除了柔軟的UV-NIL，EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高 效，強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度，高度均勻的圖案層和**少的殘留層，并具有易于擴展的晶圓尺寸和產量。EVG的SmartNI技術達到了納米壓印的長期預期，即納米壓印是一種用于大規模生產微米和納米級結構的高性能，低成本和具有批量生產能力的技術。 SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因...

SmartNIL技術簡介 SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 步進重復納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。江西納米壓印試...

通過中心提供的試驗生產線基礎設施，WaveOptics將超越其客戶對下個季度的預期需求，并有一條可靠的途徑將大批量生產工藝和設備轉移至能夠大規模生產波導的指定設施適用于全球前列OEM品牌。 WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實現的價格提供高性能，商用波導來幫助客戶將AR顯示器推向市場的承諾。利用EVG在批量生產設備和工藝技術方面的專業知識，到2019年，AR終端用戶產品將以不到600美元的價格進入市場，這是當今行業中的*低價位。 EVG紫外光納米壓印系統有： EVG?610，EVG?620NT，EVG?6200NT，EVG?720，E...

具體說來就是，MOSFET能夠有效地產生電流流動，因為標準的半導體制造技術旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來或正或負的電荷），以確保跨各組件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控，摻雜有時會泄到別的不需要的地方，那樣就創造出了所謂的“短溝道效應”區域，并導致性能下降。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖。不過威斯康星大學麥迪遜分校已經同全美多個合作伙伴攜手（包括密歇根大學、德克薩斯大學、以及加州大學伯克利分校等），開發出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導體品質的新技術。研究人員通...

納米壓印應用一：鏡片成型 晶圓級光學（WLO）的制造得到EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備的支持。使用從晶片尺寸的主印模復制來的工作印模，通過軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉移到光學聚合物材料中。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，可以輕松地適應各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制的優先。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備支持晶圓級光學（WLO）的制造。四川襯底納米壓印 EV集團...

其中包括家用電器、醫藥、電子、光學、生命科學、汽車和航空業。肖特在全球34個國家和地區設有生產基地和銷售辦事處。公司目前擁有員工超過15500名，2017/2018財年的銷售額為。總部位于德國美因茨的母公司SCHOTTAG由卡爾蔡司基金會（CarlZeissFoundation）全資擁有。卡爾蔡司基金會是德國歷史**悠久的私立基金會之一，同時也是德國規模比較大的科學促進基金會之一。作為一家基金公司，肖特對其員工，社會和環境負有特殊責任。關于EV集團（EVG）EV集團（EVG）是為半導體、微機電系統（MEMS）、化合物半導體、功率器件和納米技術器件制造提供設備與工藝解決方案的**供應商。其...

EVG ? 610 紫外線納米壓印光刻系統 具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統，從碎片到比較大150毫米。 該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉換時間*為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求，因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。 EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。晶片納米壓印現場服務 EVG ? 6200 NT特...

EVG ? 770分步重復納米壓印光刻系統 分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作 EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從** 大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。 EVG770的主要功能包括精確的對準功能，完整的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。 高 效，強大的SmartNIL工藝提供高...

EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執行 閉環冷卻水供應選項 外部浮雕和冷卻站 EVG ? 510 HE技術數據： 加熱器尺寸：150毫米 ，200毫米 比較大基板尺寸：150毫米，200毫米 **小基板尺寸：單芯片，100毫米 比較大接觸力：10、20、60 kN 比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C 夾盤系統/對準系統 150毫米加熱器：EVG ? 610，EVG ...

納米壓印應用二：面板尺寸的大面積納米壓印 EVG專有的且經過大量證明的SmartNIL技術的***進展，已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上實現。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術和光子元件等應用，至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經濟、高 效的方法，因為它不受光學系統的限制，并且可以為**小的結構提供比較好的圖案保真度。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。 EVG的納米壓印設備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三...

關于WaveOptics WaveOptics是衍射波導的全球**設計商和制造商，衍射波導是可穿戴AR設備中的關鍵光學組件。 諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設備使用戶能夠觀看覆蓋在現實世界之上的數字圖像。有兩個關鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源，以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式。 WaveOptics的波導技術可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中。該技術可產生大的眼框，雙目觀察和高視野。眼圖框（查看窗口）是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請參見下圖。WaveOptics的波導提供清晰，無失真的...

HERCULES ? NIL特征： 全自動UV-NIL壓印和低力剝離 **多300毫米的基材 完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理） 200毫米/ 300毫米橋接工具能力 全區域烙印覆蓋 批量生產**小40 nm或更小的結構 支持各種結構尺寸和形狀，包括3D 適用于高地形（粗糙）表面 *分辨率取決于過程和模板 HERCULES ? NIL技術數據： 晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ...

NIL已被證明是在大面積上實現納米級圖案的相當有成本效益的方法，因為它不受光學光刻所需的復雜光學器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供比較好圖案保真度nm）結構。 EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。 新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 HERCULES?NIL是完全集...

EVG ? 520 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印 氣動壓花選項 軟件控制的流程執行 EVG ? 520 HE技術數據 加熱器尺寸：150毫米，200毫米 比較大基板尺寸：150毫米，200毫米 **小基板尺寸：單芯片，100毫米 比較大接觸力：10、20、60、100 kN 比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C 粘合卡盤系統/對準系統 150毫米加熱器：EVG ? 610，EVG ? 620，EVG...

EVG ? 720自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統 自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設有EVG's專有SmartNIL ?技術 EVG720系統利用EVG的創新SmartNIL技術和材料專業知識，能夠大規模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結構，具有****的吞吐量，非常適合批量生產下一代微流控和光子器件，例如衍射光學元件（ DOEs）。 *分辨率取決于過程和模板 如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問官網，獲得更多信息。...